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Pub. No.:    WO/2016/056036    International Application No.:    PCT/JP2014/005088
Publication Date: 14.04.2016 International Filing Date: 06.10.2014
B01D 53/68 (2006.01), B01D 53/46 (2006.01), B01J 19/08 (2006.01), F23G 7/06 (2006.01)
Applicants: KANKEN TECHNO CO., LTD. [JP/JP]; 30-2, Kotari Ota, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6170833 (JP)
Inventors: KANESHIRO, Hiroaki; (JP).
OKAMOTO, Hideki; (JP).
HAMAKAWA, Osamu; (JP).
YANAI, Shunsuke; (JP).
IMAMURA, Hiroshi; (JP)
Agent: MORI, Yoshiaki; (JP)
Priority Data:
(JA) 排ガス処理装置
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a novel exhaust gas processing device in which a large volume of exhaust gas to be processed can be handled by a small capacity plasma generation device by preheating gas components, of the exhaust gas to be processed, that decompose under high temperature. An exhaust gas processing device 10 preheats exhaust gas to be processed F by heat from at least either an electric heater 15 or a heat exchanger 17 in the presence of moisture, after which, atmospheric pressure plasma P causes the exhaust gas F to undergo thermal decomposition. The interior of a main device body 11 is a thermal decomposition chamber T. A plasma generation device 14 is of a non-mobile type, and is disposed at a top surface 11a of the main device body 11. A reactor 12 has a cylindrical shape and is disposed inside the main device body 11, and an upper end opening 12i thereof is disposed so as to be oriented towards a plasma emission opening 14f of the plasma generation device 14. A moisture supply portion 18 is provided towards the intake side of the main device body 11. At least either the electric heater 15 or the heat exchanger 17 is disposed in a first space T1.
(FR)La présente invention a pour objet un nouveau dispositif de traitement de gaz d'échappement dans lequel un grand volume de gaz d'échappement à traiter peut être manipulé par un dispositif de production de plasma de faible capacité par préchauffage des constituants gazeux, du gaz d'échappement à traiter, qui se décomposent à haute température. À cet effet, l'invention porte sur un dispositif (10) de traitement de gaz d'échappement qui préchauffe le gaz d'échappement à traiter (F) par de la chaleur provenant d'au moins soit un dispositif de chauffage électrique (15) soit un échangeur de chaleur (17) en présence d'humidité, après quoi un plasma à pression atmosphérique (P) amène le gaz d'échappement (F) à subir une décomposition thermique. L'intérieur d'un corps principal (11) du dispositif est une chambre de décomposition thermique (T). Un dispositif de production de plasma (14) est d'un type non mobile et est disposé au niveau d'une surface supérieure (11a) du corps principal (11) du dispositif. Un réacteur (12) a une forme cylindrique et est disposé à l'intérieur du corps principal (11) du dispositif et une ouverture d'extrémité supérieure (12i) de ce dernier est disposée de manière à être orientée vers une ouverture d'émission de plasma (14f) du dispositif de production de plasma (14). Une partie d'apport d'humidité (18) est disposée vers le côté admission du corps principal (11) du dispositif. Au moins soit le dispositif de chauffage électrique (15) soit l'échangeur de chaleur (17) est disposé dans un premier espace T1.
(JA) 処理対象排ガスの高温分解ガス成分を予熱することで、大風量の処理対象排ガスに対して小容量のプラズマ発生装置で対応可能にした新規な排ガス処理装置を提供しようとするものである。 排ガス処理装置10は、水分の存在下で、電気ヒータ15又は熱交換器17の少なくともいずれか一方からの熱で処理対象排ガスFを予熱し、これに続く、大気圧プラズマPによって排ガスFを熱分解する。装置本体11は、内部が加熱分解室Tとなっている。プラズマ発生装置14は非移行型で、装置本体11の天面部11aに設置されている。反応器12は、円筒状で装置本体11内に設置され、その上端開口12iを該プラズマ発生装置14のプラズマ噴出口14fに向けて配設されている。水分供給部18は装置本体11の入口側に設けられている。電気ヒータ15又は熱交換器17の少なくともいずれか一方が第1空間T1に配置されている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)