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1. (WO2016055259) OPTICAL SYSTEM FOR PRODUCING LITHOGRAPHIC STRUCTURES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2016/055259 International Application No.: PCT/EP2015/071709
Publication Date: 14.04.2016 International Filing Date: 22.09.2015
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS AG[DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen, DE
Inventors: HÜBNER, Philipp; DE
KRAMPERT, Gerhard; DE
RICHTER, Stefan; DE
MAPPES, Timo; DE
Agent: RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB; Königstrasse 2 90402 Nürnberg, DE
Priority Data:
10 2014 220 168.306.10.2014DE
Title (EN) OPTICAL SYSTEM FOR PRODUCING LITHOGRAPHIC STRUCTURES
(FR) SYSTÈME OPTIQUE POUR LA PRODUCTION D'UNE STRUCTURE PAR LITHOGRAPHIE
(DE) OPTISCHES SYSTEM ZUR LITHOGRAFISCHEN STRUKTURERZEUGUNG
Abstract: front page image
(EN) An optical system (1) for producing lithographic structures has a projection lens system (8) for guiding a structure-producing writing light bundle in a write focus (9) in the region of a substrate surface (10) in a substrate plane (12). A deflection device (5) is used for deflecting the write focus (9) of the writing light bundle within a writing field (13) in the region of the substrate surface (10). A preview lens system (14) is used to image a preview field (15) in the region of the substrate surface (10). The preview field (15) has an area which is larger than an area of the write field (13) by at least a factor of 10. The projection lens system (8) and the preview lens system (14) are supported by a common frame (16). A substrate holder (18) can be displaced in a plane (x, y) parallel to the substrate surface (10) in two degrees (x, y) of translational freedom. Furthermore, the system (1) has a control unit (27) comprising a memory (28) in which relative coordinates of a position of the write field (13) relative to the position of the preview field (15) are stored. The result is an optical system, wherein a positioning of a substrate, which is processed while producing the lithographic structure, is achieved with good target accuracy.
(FR) L'invention concerne un système optique (1) pour la production d'une structure par lithographie, présentant une optique de projection (8) pour guider un faisceau de lumière d'écriture produisant une structure dans un point focal d'écriture (9) dans la zone d'une surface (10) de substrat dans un plan (12) de substrat. Un dispositif de déviation (5) sert à dévier le point focal d'écriture (9) du faisceau de lumière d'écriture dans un champ d'écriture (13) dans la zone de la surface (10) de substrat. Une optique de prévisualisation (14) sert à représenter un champ de prévisualisation (15) dans la zone de la surface (10) du substrat. Le champ de prévisualisation (15) présente une surface qui est supérieure au moins d'un facteur 10 à une surface du champ d'écriture (13). L'optique de projection (8) et l'optique de prévisualisation (14) sont portées par un cadre commun (16). Un support (18) de substrat peut être déplacé dans un plan (xy) parallèle à la surface (10) de substrat dans deux degrés de liberté de translation (x, y). En outre, le système (1) présente une unité de commande (27) pourvue d'une mémoire (28) dans laquelle sont enregistrées des coordonnées relatives d'une position du champ d'écriture (13) par rapport à la position du champ de prévisualisation (15). On obtient ainsi un système optique qui permet d'obtenir un positionnement d'un substrat, qui est usiné lors de la production de la structure par lithographie, avec une bonne précision cible.
(DE) Ein optisches System (1) zur lithografischen Strukturerzeugung hat eine Projektionsoptik (8) zur Führung eines strukturerzeugenden Schreiblichtbündels in einen Schreibfokus (9) im Bereich einer Substrat-Oberfläche (10) in einer Substratebene (12). Eine Ablenkeinrichtung (5) dient zur Ablenkung des Schreibfokus (9) des Schreiblichtbündels innerhalb eines Schreib feldes (13) im Bereich der Substrat- Oberfläche (10). Eine Vorschauoptik (14) dient zur Abbildung eines Vorschaufeldes (15) im Bereich der Substrat-Oberfläche (10). Das Vorschaufeld (15) hat eine Fläche, die um mindestens einen Faktor 10 größer ist als eine Fläche des Schreibfeldes (13). Die Projektionsoptik (8) und die Vorschauoptik (14) werden von einem gemeinsamen Rahmen (16) getragen. Ein Substrathalter (18) ist in einer Ebene (xy) parallel zur Substrat-Oberfläche (10) in zwei Translationsfreiheitsgraden (x, y) verlagerbar. Weiterhin hat das System (1) eine Steuereinheit (27) mit einem Speicher (28), in dem Relativkoordinaten einer Lage des Schreibfeldes (13) relativ zur Lage des Vorschaufeldes (15) abgelegt sind. Es resultiert ein optisches System, bei dem eine Positionierung eines Substrats, welches bei der lithografischen Strukturerzeugung bearbeitet wird, mit guter Zielgenauigkeit erreicht wird.
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Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)