WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Machine translation
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/052420    International Application No.:    PCT/JP2015/077346
Publication Date: 07.04.2016 International Filing Date: 28.09.2015
G03B 17/14 (2006.01), G03B 7/091 (2006.01), G03B 11/00 (2006.01), G03B 17/56 (2006.01), H04N 5/238 (2006.01), H04N 5/243 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: KOIKE, Kazumi; (JP).
SAITA, Arihiro; (JP)
Agent: KYORITSU INSTITUTE; Amix Otsuka Building 2F, 2-25-1, Kita Otsuka, Toshima-ku, Tokyo 1700004 (JP)
Priority Data:
2014-202656 30.09.2014 JP
(JA) マウントアダプタ及び撮影装置本体
Abstract: front page image
(EN)Provided are a mount adapter and an imaging device body that can prevent a decrease in the resolving power of an imaging element caused by light diffraction at the diaphragm. A mount adapter (50) is mounted between a lens barrel (12) and an imaging device body (13). The lens barrel (12) forms a first image circle C1. The imaging device body (13) contains an imaging element (31) corresponding to a second image circle C2 that is smaller than the first image circle C1. The mount adapter (50) is equipped with a wide conversion lens (22) and an exposure adjustment unit. The wide conversion lens (22) performs variable magnification on an optical image that enters from the lens barrel (12). The variable magnification β of the wide conversion lens (22) satisfies the formula D2/D1 ≤ β < 1, where D1 represents the diameter of the first image circle and D2 represents the diameter of the second image circle. The exposure adjustment unit adjusts the amount of exposure of the optical image to the imaging element (31).
(FR)L'invention concerne une bague d'adaptation et un corps de dispositif d'imagerie qui peuvent empêcher une diminution de la puissance de résolution d'un élément d'imagerie provoquée par une diffraction de la lumière au niveau de la membrane. Une bague d'adaptation (50) est montée entre un barillet d'objectif (12) et un corps de dispositif d'imagerie (13). Le barillet d'objectif (12) forme un premier cercle d'image C1. Le corps de dispositif d'imagerie (13) contient un élément d'imagerie (31) correspondant à un second cercle d'image C2 qui est plus petit que le premier cercle d'image C1. La bague d'adaptation (50) est équipée d'un objectif de conversion grand-angle (22) et d'une unité de réglage d'exposition. L'objectif de conversion grand-angle (22) effectue un grossissement variable sur une image optique qui pénètre depuis le barillet d'objectif (12). Le grossissement variable β de l'objectif de conversion grand-angle (22) satisfait la formule D2/D1 ≤ β < 1, où D1 représente le diamètre du premier cercle d'image et D2 représente le diamètre du second cercle d'image. L'unité de réglage d'exposition règle la quantité d'exposition de l'image optique par rapport à l'élément d'imagerie (31).
(JA) 絞りでの光の回折による撮像素子の解像力の低下を防止することを可能とするマウントアダプタ及び撮影装置本体を提供する。 マウントアダプタ(50)は、レンズ鏡筒(12)と撮影装置本体(13)との間に装着される。レンズ鏡筒(12)は、第1イメージサークルC1を形成する。撮影装置本体(13)は、第1イメージサークルC1より小さい第2イメージサークルC2に対応した撮像素子(31)を有する。マウントアダプタ(50)は、ワイドコンバージョンレンズ(22)と、露光量調整部とを備える。ワイドコンバージョンレンズ(22)は、レンズ鏡筒(12)から入射する光学像を変倍する。ワイドコンバージョンレンズ(22)は、変倍率をβ、第1イメージサークルの径をD1、第2イメージサークルの径をD2とした場合に、D2/D1≦β<1の関係を有する。露光量調整部は、光学像の撮像素子(31)への露光量を調整するものである。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)