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1. (WO2016052389) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING CURED FILM, CURED FILM, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DISPLAY DEVICE, AND TOUCH PANEL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/052389    International Application No.:    PCT/JP2015/077287
Publication Date: 07.04.2016 International Filing Date: 28.09.2015
IPC:
G03F 7/075 (2006.01), C08G 77/14 (2006.01), G02F 1/1333 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G06F 3/041 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/22 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: ANDO Takeshi; (JP).
KASHIWAGI Daisuke; (JP)
Agent: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2014-198678 29.09.2014 JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING CURED FILM, CURED FILM, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DISPLAY DEVICE, AND TOUCH PANEL
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM DURCI, FILM DURCI, DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE, PANNEAU TACTILE
(JA) 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびタッチパネル
Abstract: front page image
(EN)Provided is a photosensitive resin composition exhibiting excellent developability and having favorable sensitivity. Further provided are a method for producing a cured film using the photosensitive resin composition, a cured film, a liquid crystal display device, an organic electroluminescent display device, and a touch panel. This photosensitive resin composition contains a polysiloxane component, a photoacid generator for generating an acid having a pKa of 3 or less, a solvent, and an alicyclic epoxy compound represented by formula (EP) and having a molecular weight of 150-1,000. REP1 represents an alkyl group, p represents an integer between 0 and 7, inclusive, A represents a hydrocarbon group which has a valence of q and may contain an oxygen atom, and q represents an integer between 1 and 4, inclusive.
(FR)La présente invention porte sur une composition de résine photosensible présentant une excellente aptitude au développement et ayant une sensibilité favorable. En outre, la présente invention porte sur : un procédé de production de film durci utilisant la composition de résine photosensible; un film durci; un dispositif d'affichage à cristaux liquides; un dispositif d'affichage électroluminescent organique; et un panneau tactile. Cette composition de résine photosensible contient un constituant polysiloxane, un générateur de photo-acide destiné à générer un acide ayant un pKa de 3 au maximum, un solvant et un composé époxy alicyclique représenté par la formule (EP) et ayant un poids moléculaire de 150 à 1 000. REP1 représente un groupe alkyle, p représente un nombre entier compris entre 0 et 7 inclus, A représente un groupe hydrocarboné qui a une valence de q et peut contenir un atome d'oxygène, et q représente un nombre entier compris entre 1 et 4, inclus.
(JA)感度が良好で、現像性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。また、感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびタッチパネルを提供する。この感光性樹脂組成物は、ポリシロキサン成分と、pKaが3以下の酸を発生する光酸発生剤と、溶剤と、分子量150~1000の下式(EP)で表される脂環式エポキシ化合物を含む。REP1はアルキル基を表し、pは0~7の整数を表し、Aは、酸素原子を含んでもよいq価の炭化水素基を表し、qは1~4の整数を表す。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)