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1. (WO2016052373) COPPER POWDER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/052373    International Application No.:    PCT/JP2015/077253
Publication Date: 07.04.2016 International Filing Date: 28.09.2015
IPC:
B22F 1/00 (2006.01), B22F 1/02 (2006.01), C22C 9/00 (2006.01), H01B 1/00 (2006.01), H01B 1/22 (2006.01), H01B 5/00 (2006.01)
Applicants: MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-11-1 Osaki, Shinagawa-ku, Tokyo 1418584 (JP)
Inventors: MUKUNO, Takashi; (JP).
GOTO, Yoshihito; (JP)
Agent: SHOWA INTERNATIONAL PATENT FIRM; (JP)
Priority Data:
2014-205220 03.10.2014 JP
Title (EN) COPPER POWDER
(FR) POUDRE DE CUIVRE
(JA) 銅粉
Abstract: front page image
(EN)The copper powder according to the present invention has an X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) spectrum, which is obtained by measuring the surface of copper particles using an X-ray photoelectron spectroscope, in which the ratio P2/(P1+P0), which is the ratio of the peak intensity P1 of Cu(I) and the peak intensity P0 of Cu(0) to the peak intensity P2 of Cu(II), is 0.15–1. The proportional content of oxygen is preferably 0.15–1.2 mass%. The volume accumulation particle diameter D50 at an accumulation volume of 50 vol.%, as measured by the light scattering particle sizing technique, is preferably 0.3–10 µm.
(FR)Selon la présente invention, cette poudre de cuivre présente un spectre de spectroscopie photoélectronique X (XPS) qui est obtenu par mesure de la surface de particules de cuivre à l'aide d'un spectroscope photoélectronique X, dans lequel le rapport P2/(P1+P0), qui est le rapport de l'intensité de crête P1 de Cu (I) et de l'intensité P0 de Cu(0) avec l'intensité de crête P2 de Cu(II), est de 0,15-1. La teneur proportionnelle en oxygène est de préférence de 0,15-1,2 % en masse. Le diamètre de particules d'accumulation volumique D50 au niveau d'un volume d'accumulation de 50 % en volume, tel que mesuré par la technique de classement granulométrique de particules par diffusion de lumière, est de préférence de 0,3–10 µm.
(JA) 本発明の銅粉は、X線光電子分光装置(XPS)を用いて銅粒子の表面を測定して得られるX線光電子分光スペクトルにおいて、Cu(II)のピーク強度Pに対する、Cu(I)のピーク強度P及びCu(0)のピーク強度Pの比率であるP/(P+P)の値が0.15以上1以下である。酸素の含有割合が、0.15質量%以上1.2質量%以下であることが好適である。レーザー回折散乱式粒度分布測定法による累積体積50容量%における体積累積粒径D50が、0.3μm以上10μm以下であることも好適である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)