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1. (WO2016052348) COBALT SPUTTERING TARGET
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2016/052348 International Application No.: PCT/JP2015/077150
Publication Date: 07.04.2016 International Filing Date: 25.09.2015
Chapter 2 Demand Filed: 18.11.2015
IPC:
C23C 14/34 (2006.01)
Applicants: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION[JP/JP]; 1-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008164, JP
Inventors: ODA Kunihiro; JP
ASANO Takayuki; JP
Agent: OGOSHI Isamu; JP
Priority Data:
2014-19908829.09.2014JP
Title (EN) COBALT SPUTTERING TARGET
(FR) CIBLES DE PULVÉRISATION AU COBALT
(JA) コバルトスパッタリングターゲット
Abstract:
(EN) A Co sputtering target which is characterized by having a degree of purity of from 99.99% to 99.999% and an Si content of 1 wt ppm or less. The present invention addresses the problem of providing a Co sputtering target which is able to have improved barrier properties and adhesion by suppressing conversion into a highly reactive silicide by reducing the Si content in cobalt.
(FR) La présente invention concerne une cible de pulvérisation au Co qui est caractérisée par le fait qu'elle présente un degré de pureté compris entre 99,99 % et 99,999 % et une teneur en Si de 1 ppm en poids ou moins. La présente invention aborde le problème consistant à produire une cible de pulvérisation au Co qui est à même d'avoir des propriétés barrière et d'adhésion améliorées par la suppression de la conversion en un siliciure hautement réactif par une réduction de la teneur en Si dans le cobalt.
(JA) 【要約書】純度が99.99%~99.999%であり、Si含有量が1wtppm以下であることを特徴とするCoスパッタリングターゲット。コバルト中のSi含有量を低減することにより、反応性の高いシリサイド化を抑えて、バリア性及び密着性を向上させることができる、Coスパッタリングターゲットを提供することを課題とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)