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1. (WO2016050466) SINTERING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2016/050466    International Application No.:    PCT/EP2015/070617
Publication Date: 07.04.2016 International Filing Date: 09.09.2015
IPC:
H01L 21/67 (2006.01), H01L 21/60 (2006.01)
Applicants: DANFOSS SILICON POWER GMBH [DE/DE]; Husumer Strasse 251 24941 Flensburg (DE)
Inventors: OSTERWALD, Frank; (DE).
EISELE, Ronald; (DE).
BECKER, Martin; (DE).
PAULSEN, Lars; (DE).
RUDZKI, Jacek; (DE).
ULRICH, Holger; (DE)
Agent: WHITING, Gary; (DK)
Priority Data:
10 2014 114 095.8 29.09.2014 DE
Title (EN) SINTERING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FRITTAGE
Abstract: front page image
(EN)Sintering device (10) for sintering at least one electronic assembly (BG), having a lower die (20) and an upper die (30) which is slidable towards the lower die (20), or a lower die (20) which is slidable towards the upper die (30), wherein the lower die (20) forms a support for the assembly (BG) to be sintered and the upper die (30) comprises a receptacle which receives a pressure pad (32) for exerting pressure directed towards the lower die (20) and which comprises a delimitation wall (34) which laterally surrounds the pressure pad (32), and wherein the delimitation wall (34) has an outer delimitation wall (34a) and an inner delimitation wall (34b) which is surrounded in an adjacent manner by the outer delimitation wall (34a), and wherein the inner delimitation wall (34b) is mounted so as to be slidable towards the outer delimitation wall (34a) and, when pressure in the direction of the upper die (30) is exerted on the pressure pad (32), is mounted so as to be slid in the direction of the lower die (20), whereby, following the placing of the inner delimitation wall (34b) on the lower die (20), the pressure pad (32) is displaceable in the direction of the lower die (20).
(FR)L’invention concerne un dispositif de frittage (10) pour le frittage d’au moins un ensemble électronique (BG), comportant une matrice inférieure (20) et une matrice supérieure (30) qui peut coulisser vers la matrice inférieure (20), ou une matrice inférieure (20) qui peut coulisser vers la matrice supérieure (30), la matrice inférieure (20) formant un support pour l’ensemble (BG) à fritter et la matrice supérieure (30) comprenant un réceptacle qui reçoit un tampon de pression (32) pour l’application d’une pression dirigée vers la matrice inférieure (20) et qui comprend une paroi de délimitation (34) qui entoure latéralement le tampon de pression (32), et la paroi de délimitation (34) comportant une paroi de délimitation extérieure (34a) et une paroi de délimitation intérieure (34b) qui est entourée de manière adjacente par la paroi de délimitation extérieure (34a), et la paroi de délimitation intérieure (34b) étant montée de manière à pouvoir coulisser vers la paroi de délimitation extérieure (34a) et, quand la pression dans la direction de la matrice supérieure (30) est exercée sur le tampon de pression (32), de manière à coulisser dans la direction de la matrice inférieure (20), tel que, après le placement de la paroi de délimitation intérieure (34b) sur la matrice inférieure (20), le tampon de pression (32) soit déplaçable dans la direction de la matrice inférieure (20).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)