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1. WO2016020170 - A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND AN OBJECT POSITIONING SYSTEM

Publication Number WO/2016/020170
Publication Date 11.02.2016
International Application No. PCT/EP2015/066314
International Filing Date 16.07.2015
IPC
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20
Exposure; Apparatus therefor
G03F 7/20 (2006.01)
CPC
G03F 7/70341
G03F 7/70725
G03F 7/70783
G03F 7/70875
Applicants
  • ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven, NL
Inventors
  • KOEVOETS, Adrianus, Hendrik; NL
  • BERENDSEN, Christianus, Wilhelmus, Johannes; NL
  • CORTIE, Rogier, Hendrikus, Magdalena; NL
  • OVERKAMP, Jim, Vincent; NL
  • NEEFS, Patricius, Jacobus; NL
  • SAPUTRA, Putra; NL
  • BLOKS, Ruud, Hendricus, Martinus, Johannes; NL
  • RENDERS, Michael, Johannes, Hendrika, Wilhelmina; NL
  • KUNNEN, Johan, Gertrudis, Cornelis; NL
  • LAURENT, Thibault, Simon, Mathieu; NL
Agents
  • DUNG, S.; NL
Priority Data
14179972.606.08.2014EP
Publication Language English (EN)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND AN OBJECT POSITIONING SYSTEM
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET SYSTÈME DE POSITIONNEMENT D'OBJET
Abstract
(EN)
A lithographic apparatus comprising an object table which carries an object. The lithographic apparatus may further comprise at least one sensor as part of a measurement system to measure a characteristic of the object table, the environment surrounding the lithographic apparatus or another component of the lithographic apparatus. The measured characteristic may be used to estimate the deformation of the object due to varying loads during operation of the lithographic apparatus, for example varying loads induced by a two- phase flow in a channel formed within the object table. Additionally, or alternatively, the lithographic apparatus comprises a predictor to estimate the deformation of the object based on a model. The positioning of the object table carrying the object can be controlled based on the estimated deformation. The positioning of a projection beam, used to pattern a substrate, can be controlled relative to the object, to alter the position of the pattern and/or the projection beam on the substrate, based on the estimated deformation.
(FR)
L'invention concerne un appareil lithographique comprenant une table d'objet qui supporte un objet. L'appareil lithographique peut en outre comprendre au moins un capteur en tant que partie d'un système de mesure pour mesurer une caractéristique de la table d'objet, l'environnement entourant l'appareil lithographique, ou un autre composant de l'appareil lithographique. La caractéristique mesurée peut être utilisée pour estimer la déformation de l'objet due à des charges variables pendant le fonctionnement de l'appareil lithographique, par exemple des charges variables induites par un écoulement à deux phases dans un canal formé à l'intérieur de la table d'objet. De plus, ou selon une autre solution, l'appareil lithographique comprend une unité de prédiction pour estimer la déformation de l'objet en fonction d'un modèle. Le positionnement de la table d'objet supportant l'objet peut être commandé en fonction de la déformation estimée. Le positionnement d'un faisceau de projection, utilisé pour former un motif sur un substrat, peut être commandé par rapport à l'objet afin de modifier la position du motif et/ou du faisceau de projection sur le substrat, en fonction de la déformation estimée.
Also published as
Latest bibliographic data on file with the International Bureau