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1. (WO2015127348) MITIGATION OF EUV SHOT NOISE REPLICATING INTO ACID SHOT NOISE IN PHOTO-SENSITIZED CHEMICALLY-AMPLIFIED RESIST
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2015/127348 International Application No.: PCT/US2015/017056
Publication Date: 27.08.2015 International Filing Date: 23.02.2015
IPC:
H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED[JP/JP]; Akasaka Biz Tower 3-1 Akasaka 5-chome Minato-ku, Tokyo 107-6325, JP
TOKYO ELECTRON U.S. HOLDINGS, INC.[US/US]; 2400 Grove Boulevard Austin, Texas 78741, US (JP)
Inventors: CARCASI, Michael A.; US
SOMERVELL, Mark H.; US
Agent: MITROVIC, Andrej; US
Priority Data:
61/944,04424.02.2014US
Title (EN) MITIGATION OF EUV SHOT NOISE REPLICATING INTO ACID SHOT NOISE IN PHOTO-SENSITIZED CHEMICALLY-AMPLIFIED RESIST
(FR) ATTÉNUATION DE BRUIT DE GRENAILLE EUV SE PRODUISANT DANS UN BRUIT DE GRENAILLE D'ACIDE DANS UN AGENT DE RÉSERVE CHIMIQUEMENT AMPLIFIÉ PHOTO-SENSIBILISÉ
Abstract: front page image
(EN) A method for mitigating shot noise in extreme ultraviolet (EUV) lithography and patterning of photo-sensitized chemically-amplified resist (PS-CAR) is described. The method includes a first EUV patterned exposure to generate a photosensitizer and a second flood exposure at a wavelength different than the wavelength of the first EUV patterned exposure, to generate acid in regions exposed during the first EUV patterned exposure, wherein the photosensitizer acts to amplify acid generation and improve contrast. The resist may be exposed to heat, liquid solvent, solvent atmosphere, or a vacuum to mitigate the effects of EUV shot noise on photosensitizer concentration which may accrue during the first EUV patterned exposure.
(FR) L'invention porte sur un procédé pour atténuer un bruit de grenaille dans une lithographie à ultraviolet extrême (EUV) et modéliser un agent de réserve chimiquement amplifié photo-sensibilisé (PS-CAR). Le procédé comprend une première exposition modélisée EUV pour générer un photosensibilisateur et une seconde exposition à inondation à une longueur d'onde différente de la longueur d'onde de la première exposition modélisée EUV, pour générer un acide dans des régions exposées pendant la première exposition modélisée EUV, le photosensibilisateur agissant pour amplifier la génération d'acide et améliorer le contraste. L'agent de réserve peut être exposé à la chaleur, un solvant liquide, une atmosphère de solvant, ou un vide afin d'atténuer les effets de bruit de grenaille EUV sur une concentration de photosensibilisateur qui peut s'accumuler pendant la première exposition modélisée EUV.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)