WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2015127036) METHODS AND SYSTEMS FOR CONTROLLED LATERAL SOLIDIFICATION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2015/127036 International Application No.: PCT/US2015/016559
Publication Date: 27.08.2015 International Filing Date: 19.02.2015
IPC:
B23K 26/354 (2014.01) ,C30B 13/24 (2006.01) ,H01L 21/266 (2006.01)
Applicants: THE TRUSTEES OF COLUMBIA UNIVERSITY IN THE CITY OF NEW YORK[US/US]; 412 Low Memorial Library 535 West 116th Street New York, NY 10027, US
Inventors: IM, James, S.; US
YU, Miao; US
Agent: PACELLI, Andrea; US
Priority Data:
61/941,82419.02.2014US
Title (EN) METHODS AND SYSTEMS FOR CONTROLLED LATERAL SOLIDIFICATION
(FR) PROCÉDÉS ET SYSTÈMES POUR SOLIDIFICATION LATÉRALE RÉGULÉE
Abstract: front page image
(EN) The present disclosure is directed to methods and systems for processing a thin film. An exemplary method can include providing the thin film on a non-absorbing substrate, patterning the thin film to form a patterned region comprising a plurality of sides, and irradiating the patterned region with a first laser pulse having a fluence that is sufficient to melt a first sub-region of the patterned region without melting a second sub-region of the patterned region proximal to a first side of the patterned region.
(FR) La présente invention concerne des procédés et des systèmes permettant de traiter un film mince. Un procédé donné à titre d'exemple peut comprendre les étapes consistant à disposer le film mince sur un substrat non absorbant, orner de motifs le film mince pour former une région à motifs comprenant une pluralité de côtés et irradier la région à motifs avec une première impulsion laser présentant une fluence qui est suffisante pour faire fondre une première sous-région de la région à motifs sans faire fondre une seconde sous-région de la région à motifs à proximité d'un premier côté de la région à motifs.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)