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1. (WO2015126747) METAL-FREE CVD COATING OF GRAPHENE ON GLASS AND OTHER DIELECTRIC SUBSTRATES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/126747    International Application No.:    PCT/US2015/015792
Publication Date: 27.08.2015 International Filing Date: 13.02.2015
IPC:
A61K 33/00 (2006.01), C01B 31/04 (2006.01)
Applicants: CORNING INCORPORATED [US/US]; 1 Riverfront Plaza Corning, New York 14831 (US)
Inventors: LIU, Xinyuan; (US).
MANLEY, Robert George; (US).
MORENA, Robert Michael; (US).
SONG, Zhen; (US)
Agent: RUSSELL, Michael W; (US)
Priority Data:
14/182,819 18.02.2014 US
Title (EN) METAL-FREE CVD COATING OF GRAPHENE ON GLASS AND OTHER DIELECTRIC SUBSTRATES
(FR) REVÊTEMENT PAR CVD SANS MÉTAL DE GRAPHÈNE SUR DU VERRE ET SUR D'AUTRES SUBSTRATS DIÉLECTRIQUES
Abstract: front page image
(EN)A catalyst-free CVD method for forming graphene. The method involves placing a substrate within a reaction chamber, heating the substrate to a temperature between 600°C and 1100°C, and introducing a carbon precursor into the chamber to form a graphene layer on a surface of the substrate. The method does not use plasma or a metal catalyst to form the graphene.
(FR)La présente invention concerne un procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sans catalyseur pour la formation de graphène. Le procédé consiste à placer un substrat dans une chambre de réaction, à chauffer le substrat à une température comprise entre 600 °C et 1 100 °C, et à introduire un précurseur de carbone dans la chambre pour former une couche de graphène sur une surface du substrat. Le procédé n'utilise pas de plasma ou de catalyseur métallique pour former le graphène.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)