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1. (WO2015126704) PROCESS AND SYSTEM FOR PRODUCING ACRYLIC ACID
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/126704    International Application No.:    PCT/US2015/015520
Publication Date: 27.08.2015 International Filing Date: 12.02.2015
IPC:
C07C 51/42 (2006.01)
Applicants: ARKEMA INC. [US/US]; 900 First Avenue King of Prussia, Pennsylvania 19406 (US)
Inventors: DECOURCY, Michael S.; (US)
Agent: MORREALE, Lynn B.; (US)
Priority Data:
61/942,261 20.02.2014 US
Title (EN) PROCESS AND SYSTEM FOR PRODUCING ACRYLIC ACID
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE PRODUCTION D’ACIDE ACRYLIQUE
Abstract: front page image
(EN)A process for recovering (meth)acrylic acid includes distilling a mixture comprising (meth)acrylic acid in a finishing column at less than atmospheric pressure to produce a finishing column overhead stream and a finishing column bottoms stream. An overhead aspirating direct contact condenser system at least partially condenses the finishing column overhead stream to form a finishing column overhead condensate and an overhead non-condensables vent stream. A finishing column vapor-phase side draw may also be recovered. An aspirating direct contact condenser system may be used to at least partially condense the vapor-phase side draw.
(FR)Un procédé de récupération d'acide (méth)acrylique comprend la distillation d'un mélange comprenant un acide (méth)acrylique dans une colonne de finition à une pression inférieure à la pression atmosphérique, pour produire un flux de tête de colonne de finition et un flux de queue de colonne de finition. Un système condenseur à contact direct pour aspiration du flux de tête condense au moins partiellement le flux de tête de colonne de finition pour former un condensat de tête de colonne de finition et un flux de purge de composants non condensables du flux de tête. Une fraction secondaire en phase vapeur de colonne de finition peut également être récupérée. Un système condenseur à contact direct pour aspiration peut être utilisé pour condenser au moins partiellement la fraction secondaire en phase vapeur.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)