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1. (WO2015126568) MEASUREMENT GAP PATTERNS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/126568    International Application No.:    PCT/US2015/012498
Publication Date: 27.08.2015 International Filing Date: 22.01.2015
IPC:
H04W 24/08 (2009.01), H04W 88/08 (2009.01)
Applicants: INTEL IP CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: TANG, Yang; (US).
YIU, Candy; (US).
HUANG, Rui; (CN).
ZHANG, Yujian; (CN)
Agent: HAYMOND, Alex W.; (US)
Priority Data:
61/943,982 24.02.2014 US
Title (EN) MEASUREMENT GAP PATTERNS
(FR) MODÈLES D'INTERVALLES DE MESURES
Abstract: front page image
(EN)Technology for performing downlink scheduling is disclosed. One or more subframes can be identified within a defined frame of a primary cell to perform cross-subframe scheduling for a secondary cell. The primary cell can be configured to communicate with a user equipment (UE) using a licensed band and the secondary cell can be configured to communicate with the UE using an unlicensed band. The cross-subframe scheduling can be performed for one or more downlink subframes of the secondary cell using the one or more subframes of the primary cell.
(FR)L'invention concerne une technologie pour réaliser une planification de liaison descendante. Une ou plusieurs sous-trames peuvent être identifiées dans une trame définie d'une cellule primaire pour réaliser une planification inter-sous-trames pour une cellule secondaire. La cellule primaire peut être configurée pour communiquer avec un équipement utilisateur (UE) à l'aide d'une bande autorisée et la cellule secondaire peut être configurée pour communiquer avec l'UE à l'aide d'une bande non autorisée. La planification inter-sous-trames peut être réalisée pour une ou plusieurs sous-trames de liaison descendante de la cellule secondaire à l'aide de la ou des sous-trames de la cellule primaire.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)