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1. (WO2015126425) COVER PLATE FOR DEFECT CONTROL IN SPIN COATING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/126425    International Application No.:    PCT/US2014/018054
Publication Date: 27.08.2015 International Filing Date: 24.02.2014
IPC:
B05C 5/02 (2006.01), B05D 3/12 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; Akasaka Biz Tower 3-1 Akasaka 5-chome Minato-ku, Tokyo 107-6325 (JP).
TOKYO ELECTRON U.S. HOLDINGS, INC. [US/US]; 2400 Grove Boulevard Austin, TX 78741 (US) (JP, US only)
Inventors: BASSETT, Derek, W.; (US).
PRINTZ, Wallace, P.; (US).
HOOGE, Joshua, S; (US).
ICHINO, Katsunori; (JP).
TERASHITA, Yuichi; (JP).
YOSHIHARA, Kousuke; (JP)
Agent: MATHER, Joshua; 2400 Grove Boulevard Austin, TX 78741 (US)
Priority Data:
Title (EN) COVER PLATE FOR DEFECT CONTROL IN SPIN COATING
(FR) PLAQUE DE RECOUVREMENT POUR LE CONTRÔLE DE DÉFAUTS DANS UN DÉPÔT PAR CENTRIFUGATION
Abstract: front page image
(EN)Techniques disclosed herein provide an apparatus and method of spin coating that inhibits the formation of wind marks and other defects from turbulent fluid-flow, thereby enabling higher rotational velocities and decreased drying times, while maintaining film uniformity. Techniques disclosed herein include a fluid-flow member, such as a ring or cover, positioned or suspended above the surface of a wafer or other substrate. The fluid-flow member has a radial curvature that prevents wind marks during rotation of a wafer during a coating and spin drying process.
(FR)La présente invention concerne des techniques pourvoyant à un appareil et à un procédé de dépôt par centrifugation qui empêche la formation de marques d'air et d'autres défauts émanant d'un écoulement fluidique turbulent, permettant d'obtenir ainsi des vitesses de rotation supérieures et des temps de séchage réduits, tout en maintenant l'uniformité du film. Des techniques selon l'invention comprennent un élément d'écoulement fluidique, tel qu'un anneau ou un couvercle, positionné ou suspendu au-dessus de la surface d'une tranche ou d'un autre substrat. L'élément d'écoulement fluidique présente une courbure radiale qui empêche la formation de marques d'air au cours de la rotation d'une tranche lors d'un traitement de revêtement et de séchage par centrifugation.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)