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1. (WO2015125964) MULTILAYER REFLECTIVE MIRROR, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND EXPOSURE DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/125964    International Application No.:    PCT/JP2015/055169
Publication Date: 27.08.2015 International Filing Date: 24.02.2015
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G02B 5/08 (2006.01), G02B 5/10 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290 (JP)
Inventors: MURAKAMI Katsuhiko; (JP)
Agent: OMORI Satoshi; (JP)
Priority Data:
2014-033476 24.02.2014 JP
Title (EN) MULTILAYER REFLECTIVE MIRROR, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND EXPOSURE DEVICE
(FR) MIROIR RÉFLÉCHISSANT À FILM MULTICOUCHE AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, ET DISPOSITIF D'EXPOSITION
(JA) 多層膜反射鏡及びその製造方法、並びに露光装置
Abstract: front page image
(EN)A multilayer reflective mirror for reflecting incident light and equipped with a substrate, a first multilayer film formed by alternatingly layering an Mo layer and an Si layer on the surface of the substrate, a detachable layer capable of detaching from the first multilayer film and formed on the first multilayer film, and a second multilayer film formed by alternatingly layering an Mo layer and an Si layer on the detachable layer, wherein it is possible to remove the second multilayer film along with the detachable layer as a result of detachment of the detachable layer by dissolving using acid. Furthermore, when the reflectivity of the multilayer reflective mirror declines, it is possible to increase the reflectivity thereof by a simple procedure.
(FR)L'invention concerne un miroir réfléchissant à film multicouche qui réfléchit une lumière incidente, et qui est équipé : d'un substrat ; d'un premier film multicouche formé par stratification alternée d'une couche Mo et d'une couche Si à la surface du substrat ; d'une couche de pelage formée sur le premier film multicouche, et pelable par rapport à cette dernière ; et d'un second film multicouche formé par stratification alternée d'une couche Mo et d'une couche Si sur la couche de pelage. Le second film multicouche peut être retiré avec la couche de pelage par dissolution à l'acide et pelage de cette dernière. Lorsque le facteur de réflexion du miroir réfléchissant à film multicouche diminue, il peut être élevé par un processus simple.
(JA) 入射する光を反射する多層膜反射鏡であって、基板と、基板の表面にMo層及びSi層を交互に積層して形成された第1の多層膜と、第1の多層膜上に形成され、第1の多層膜に対して剥離可能な剥離層と、剥離層上にMo層及びSi層を交互に積層して形成された第2の多層膜と、を備え、第2の多層膜は、剥離層を酸による溶解によって剥離することによって剥離層とともに除去可能である。多層膜反射鏡の反射率が低下した場合に、簡単な工程でその反射率を高くできる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)