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1. (WO2015125895) POLYIMIDE PRECURSOR AND/OR POLYIMIDE-CONTAINING COMPOSITION, AND POLYIMIDE FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/125895    International Application No.:    PCT/JP2015/054691
Publication Date: 27.08.2015 International Filing Date: 19.02.2015
IPC:
C08G 73/10 (2006.01), C08L 79/08 (2006.01)
Applicants: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 1-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008251 (JP)
Inventors: YAMAGUCHI Mika; (JP).
SUGIYAMA Jiro; (JP).
NOGUCHI Hiroshi; (JP).
KOGA Satoko; (JP).
ISHIKUBO Akira; (JP).
KATO Takeshi; (JP)
Agent: EIKOH PATENT FIRM, P.C.; Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2014-032147 21.02.2014 JP
2014-131668 26.06.2014 JP
2015-000993 06.01.2015 JP
Title (EN) POLYIMIDE PRECURSOR AND/OR POLYIMIDE-CONTAINING COMPOSITION, AND POLYIMIDE FILM
(FR) PRÉCURSEUR DE POLYIMIDE ET/OU COMPOSITION CONTENANT UN POLYIMIDE ET FILM DE POLYIMIDE
(JA) ポリイミド前駆体及び/又はポリイミドを含む組成物、並びにポリイミドフィルム
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a polyimide material which exhibits excellent heat resistance and transmissivity, a low coefficient of linear expansion, and low retardation. The present invention pertains to a polyimide film containing a tetracarboxylic acid residue and a diamine residue, and characterized in that the tetracarboxylic acid residue and/or the diamine residue has a curved section, the coefficient of linear expansion is 60 ppm/K or less, and the retardation is 200nm or less.
(FR)Le but de la présente invention est de fournir un matériau de polyimide qui présente d'excellentes caractéristiques en termes de résistance à la chaleur et de transmissivité, ainsi qu'un faible coefficient de dilatation linéaire et une faible biréfringence. La présente invention se rapporte à un film de polyimide contenant un résidu d'acide tétra-carboxylique et un résidu de diamine, et est caractérisée en ce que le résidu d'acide tétra-carboxylique et/ou le résidu de diamine présente une section incurvée, le coefficient de dilatation linéaire est d'au plus 60 ppm/K, et la biréfringence est d'au plus 200 nm.
(JA) 本発明は耐熱性、透過率、低線膨張係数及び低リタデーションに優れたポリイミド材料を提供することを目的とする。本発明はテトラカルボン酸残基及びジアミン残基を含むポリイミドフィルムであって、前記テトラカルボン酸残基及びジアミン残基の少なくともいずれか一方が屈曲部位を有し、線膨張係数が60ppm/K以下であり、かつ、リタデーションが200nm以下であることを特徴とするポリイミドフィルムに関する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)