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1. (WO2015125787) NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIN CURED FILM, PARTITION WALL, AND OPTICAL ELEMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/125787    International Application No.:    PCT/JP2015/054323
Publication Date: 27.08.2015 International Filing Date: 17.02.2015
IPC:
H05B 33/22 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), H01L 21/312 (2006.01), H01L 21/336 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01), H01L 51/44 (2006.01), H01L 51/46 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/12 (2006.01)
Applicants: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
Inventors: NAGAI, Yusuke; (JP).
TAKAHASHI, Hideyuki; (JP).
KAWASHIMA, Masayuki; (JP)
Agent: SENMYO, Kenji; (JP)
Priority Data:
2014-028800 18.02.2014 JP
Title (EN) NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIN CURED FILM, PARTITION WALL, AND OPTICAL ELEMENT
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE NÉGATIVE, FILM DURCI DE RÉSINE, SÉPARATION ET ÉLÉMENT OPTIQUE
(JA) ネガ型感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜、隔壁および光学素子
Abstract: front page image
(EN) Provided are a negative photosensitive resin composition for an optical element having favorable ink repellency and capable of reducing a residue at an opening section, a resin cured film for an optical element having favorable ink repellency, a partition wall for an optical element capable of forming a high-precision pattern, and an optical element having the partition wall. A negative photosensitive resin composition containing a photocurable alkali-soluble resin or alkali-soluble monomer (A), a photopolymerization initiator (B), a reactive ultraviolet absorber (C), a polymerization inhibitor (D), and an ink repellent agent (E); a cured film and a partition wall formed using the negative photosensitive resin composition; or an organic EL element, a quantum dot display, a TFT array, or a thin-film solar cell having multiple dots and the partition walls positioned between the adjacent dots on the surface of a substrate.
(FR) L'invention concerne: une composition de résine photosensible pour un élément optique, laquelle présente une imperméabilité à l'encre satisfaisante et laquelle est capable de diminuer les résidus au niveau d'une ouverture; un film durci de résine pour un élément optique présentant une imperméabilité à l'encre satisfaisante; une séparation pour un élément optique permettant de former un motif de grande précision; et un élément optique possédant cette séparation. Plus spécifiquement, l'invention concerne une composition de résine photosensible négative contenant: (A) une résine photodurcissable soluble dans les alcalis ou un monomère soluble dans les alcalis; (B) un initiateur de polymérisation; (C) un absorbeur UV réactif; (D) un inhibiteur de polymérisation; et (E) un agent répulsif de l'encre; ainsi qu'un film durci et une séparation mettant en oeuvre cette composition de résine photosensible négative; ou un élément organique électroluminescent, un affichage à points quantiques, un réseau TFT ou une cellule photovoltaïque à film fin, lesquels présentent de multiples points et des séparation situées entres des points adjacents sur la surface d'un substrat.
(JA) 良好な撥インク性を有するとともに開口部における残渣の低減が可能な光学素子用のネガ型感光性樹脂組成物、良好な撥インク性を有する光学素子用の樹脂硬化膜、精度の高いパターンの形成が可能な光学素子用の隔壁および、該隔壁を有する光学素子の提供。 光硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂またはアルカリ可溶性単量体(A)と、光重合開始剤(B)と、反応性紫外線吸収剤(C)と、重合禁止剤(D)と、撥インク剤(E)とを含有するネガ型感光性樹脂組成物、該ネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜、隔壁、または基板表面に複数のドットと隣接するドット間に位置する該隔壁とを有する、有機EL素子、量子ドットディスプレイ、TFTアレイ、又は薄膜太陽電池。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)