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1. (WO2015125242) FILM DEPOSITION DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/125242    International Application No.:    PCT/JP2014/053925
Publication Date: 27.08.2015 International Filing Date: 19.02.2014
IPC:
C23C 14/00 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01)
Applicants: SAKAI DISPLAY PRODUCTS CORPORATION [JP/JP]; 1, Takumicho, Sakai-ku, Sakai-shi, Osaka 5908522 (JP)
Inventors: IMAHARA, Hirokazu; (JP).
WAKAMORI, Yasuhiro; (JP)
Agent: KOHNO, Hideto; KOHNO & KOHNO, 4-3, Tsuriganecho 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400035 (JP)
Priority Data:
Title (EN) FILM DEPOSITION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE DÉPÔT FILM
(JA) 成膜装置
Abstract: front page image
(EN)In the present invention, an anti-adhesion plate surrounding a process region of a substrate in a process chamber is configured by arranging a plurality of component plates such that respective edges thereof overlap each other with a gap therebetween, and thermal expansion resulting from film deposition is absorbed by relative movement of the overlapping portion in the width direction. A recess is provided in the overlapping portion of the component plate such that the gap on the side communicating with the process region is greater than the gap on the other side, contact is mitigated if the component plates undergo relative movement in order to absorb the thermal expansion by widening the gap in a portion where a metal film is formed during film deposition, and a decrease in film deposition quality resulting from the mixing in of peeled material is prevented. The sealing function of the anti-adhesion plate is ensured by the gap in portions other than the recess.
(FR)Dans la présente invention, une plaque antiadhésive entourant une zone de traitement d'un substrat dans une chambre de traitement est conçue par agencement d'une pluralité plaques à composant de façon telle que des bords respectifs de ces dernières se chevauchent les uns les autres avec un espace entre eux et la dilatation thermique résultant du dépôt de film est absorbée par un mouvement relatif de la partie de chevauchement dans le sens de la largeur. Un évidement est ménagé dans la partie de chevauchement de la plaque à composant de façon telle que l'espace sur le côté en communication avec la région de traitement est plus grand que l'espace sur l'autre côté, le contact est atténué si les plaques à composant subissent un mouvement relatif afin d'absorber la dilatation thermique par élargissement de l'espace dans une partie où un film métallique est formé pendant le dépôt de film et une diminution de la qualité du dépôt de film résultant du mélange de matière décollée est empêchée. La fonction d'étanchéité de la plaque antiadhésive est assurée par l'espace dans des parties autres que l'évidement.
(JA) 処理室内で基板の処理領域を囲う防着板を、複数の分板を夫々の端部を隙間を隔てて重ねて並べて構成し、成膜処理に伴って生じる熱膨張を重合部の幅方向への相対移動により吸収する。分板の重合部に、処理領域との連通側の隙間を他側よりも大きくする凹部を設け、成膜処理時に金属膜が形成される部位の隙間を拡げて熱膨張の吸収のために分板が相対移動した場合の接触を抑制し、剥離物の混入による成膜品質の低下を防止する。防着板の封止機能は、凹部以外の部分での隙間により確保する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)