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Pub. No.: WO/2015/125193 International Application No.: PCT/JP2014/005814
Publication Date: 27.08.2015 International Filing Date: 19.11.2014
C23C 14/34 (2006.01)
Applicants: CANON ANELVA CORPORATION[JP/JP]; 2-5-1, Kurigi, Asao-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2158550, JP
Inventors: NARADATE, Hidetomo; JP
Agent: OHTSUKA, Yasunori; JP
Priority Data:
(JA) 処理装置
Abstract: front page image
(EN) Provided is a processing apparatus characterized in comprising: a vacuum chamber; multiple electrodes disposed inside the vacuum chamber; multiple electric power sources for applying electric potentials to the respective multiple electrodes; a detection unit for detecting the potentials in the processing space between a substrate that has been conveyed into the vacuum chamber and each of the multiple electrodes; and a control unit for controlling the phases of the electric potentials applied on each of the multiple electrodes by the multiple electric power sources on the basis of the electric potentials detected by the detection unit.
(FR) L'invention se rapporte à un appareil de traitement, caractérisé en ce qu'il comprend : une chambre à vide ; de multiples électrodes disposées à l'intérieur de la chambre à vide ; de multiples sources d'alimentation électrique pour l'application de potentiels électriques aux multiples électrodes respectives ; une unité de détection pour la détection des potentiels dans l'espace de traitement entre un substrat qui a été transporté dans la chambre à vide et chacune des multiples électrodes ; et une unité de commande pour la commande des phases des potentiels électriques appliqués sur chacune des multiples électrodes par les multiples sources d'alimentation électrique sur la base des potentiels électriques détectés par l'unité de détection.
(JA)  真空容器と、前記真空容器内に配置された複数の電極と、前記複数の電極のそれぞれに電位を与える複数の電源と、前記真空容器内に搬送される基板と前記複数の電極のそれぞれとの間のプロセス空間における電位を検出する検出部と、前記検出部によって検出された電位に基づいて、前記複数の電源によって前記複数の電極のそれぞれに与えられる電位の位相を制御する制御部と、を有することを特徴とする処理装置を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)