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1. (WO2015124391) MEASURING A PROCESS PARAMETER FOR A MANUFACTURING PROCESS INVOLVING LITHOGRAPHY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/124391    International Application No.:    PCT/EP2015/051680
Publication Date: 27.08.2015 International Filing Date: 28.01.2015
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: VAN DER SCHAAR, Maurits; (NL).
DEN BOEF, Arie, Jeffrey; (NL).
ADAM, Omer, Abubaker, Omer; (NL).
HUANG, Te-Chih; (NL).
ZHANG, Youping; (US)
Agent: BROEKEN, Petrus; (NL)
Priority Data:
61/943,160 21.02.2014 US
Title (EN) MEASURING A PROCESS PARAMETER FOR A MANUFACTURING PROCESS INVOLVING LITHOGRAPHY
(FR) MESURE D'UN PARAMÈTRE DE PROCESSUS POUR UN PROCESSUS DE FABRICATION FAISANT APPEL À LA LITHOGRAPHIE
Abstract: front page image
(EN)There is disclosed a method of measuring a process parameter for a manufacturing process involving lithography. In a disclosed arrangement the method comprises performing first and second measurements of overlay error in a region on a substrate, and obtaining a measure of the process parameter based on the first and second measurements of overlay error. The first measurement of overlay error is designed to be more sensitive to a perturbation in the process parameter than the second measurement of overlay error by a known amount.
(FR)L'invention concerne un procédé de mesure d'un paramètre de processus pour un processus de fabrication faisant appel à la lithographie. Dans un mode de mise en oeuvre selon l'invention, le procédé comprend la réalisation d'une première et d'une deuxième mesure de l'erreur de superposition dans une région sur un substrat et l'obtention d'une mesure du paramètre de processus en s'appuyant sur les première et deuxième mesures de l'erreur de superposition. La première mesure de l'erreur de superposition est conçue de manière à être plus sensible d'un montant connu à une perturbation du paramètre de processus que la deuxième mesure de l'erreur de superposition.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)