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1. (WO2015124270) LIGHTING SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND METHOD FOR OPERATING SUCH A LIGHTING SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/124270    International Application No.:    PCT/EP2015/000273
Publication Date: 27.08.2015 International Filing Date: 10.02.2015
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2 73447 Oberkochen (DE)
Inventors: DEGÜNTHER, Markus; (DE).
DAVYDENKO, Vladimir; (DE).
KORB, Thomas; (DE).
EISENMENGER, Johannes; (DE)
Agent: SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner, Patentanwälte mbB Epplestr. 14 70597 Stuttgart (DE)
Priority Data:
10 2014 203 041.2 19.02.2014 DE
Title (DE) BELEUCHTUNGSSYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES SOLCHEN
(EN) LIGHTING SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND METHOD FOR OPERATING SUCH A LIGHTING SYSTEM
(FR) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE D'INSTALLATION D'ÉCLAIRAGE PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ POUR LE FAIRE FONCTIONNER
Abstract: front page image
(DE)Ein Beleuchtungssystem einer lithographischen Projektionsbelichtungsanlage (12) umfasst eine Lichtquelle (LS; LS 1, LS 2), die zur Erzeugung einer Abfolge von Lichtpulsen (42-1 bis 42-3; 42-1, 42-2, 52-1, 52-2) eingerichtet ist. Ferner umfasst das Beleuchtungssystem ein Array (28) von optischen Elementen (32), die zwischen zwei Schaltstellungen digital umschaltbar sind. Eine Steuereinrichtung (34) steuert die optischen Elemente (32) so an, dass sie nur zwischen zwei aufeinander folgenden Lichtpulsen ihre Schaltstellung ändern und während der Lichtpulse ihre Schaltstellung beibehalten.
(EN)The invention relates to a lighting system of a lithographic projection exposure system (12) comprising a light source (LS; LS 1, LS 2), which is designed to produce a sequence of light pulses (42-1 to 42-3; 42-1, 42-2, 52-1, 52-2). Furthermore, the lighting system comprises an array (28) of optical elements (32), which can be digitally switched between two switching positions. A control device (34) controls the optical elements (32) in such a way that the optical elements change the switching position thereof only between two consecutive light pulses and maintain the switching position thereof during the light pulses.
(FR)Un système d'éclairage d'une installation d'éclairage par projection lithographique (12) présente une source de lumière (LS; LS 1, LS 2) qui est conçue pour produire une série d'impulsions lumineuses (42-1 à 42-3; 42-1, 42-2, 52-1, 52-2). Le système d'éclairage comprend également un réseau (28) d'éléments optiques (32) qui peuvent passer par voie numérique d'une position de commutation à une autre et inversement. Un dispositif de commande (34) commande les éléments optiques (32) de sorte qu'ils modifient leur position de commutation uniquement entre deux impulsions lumineuses successives, et conservent leur position de commutation pendant la durée de l'impulsion lumineuse.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)