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1. (WO2015124025) BEARING DEVICE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/124025    International Application No.:    PCT/CN2014/094359
Publication Date: 27.08.2015 International Filing Date: 19.12.2014
IPC:
C23C 14/50 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01), H01L 21/203 (2006.01)
Applicants: BEIJING NMC CO., LTD. [CN/CN]; NO.8 Wenchang Avenue Beijing Economic-Technological Development Area, Beijing 100176 (CN)
Inventors: GUO, Hao; (CN).
CHEN, Peng; (CN).
HOU, Jue; (CN)
Agent: TEE & HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; ZHANG, Tianshu 10th Floor, Tower D, Minsheng Financial Center, 28 Jianguomennei Avenue, Dongcheng District Beijing 100005 (CN)
Priority Data:
201410061908.3 24.02.2014 CN
Title (EN) BEARING DEVICE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF SUPPORT ET APPAREIL DE TRAITEMENT PAR PLASMA
(ZH) 承载装置及等离子体加工设备
Abstract: front page image
(EN)Provided are a bearing device and plasma processing apparatus, comprising a base, a base driving mechanism, a pressure ring and a check ring; the base is used to bear a machined workpiece; the base driving mechanism is used to drive the base to ascend to a processing position or descend to an unload position; the pressure ring is used to tightly press the edge area of the machined workpiece placed on the base when the base is in the processing position; the check ring surrounds the outer peripheral wall of the base and is located below the pressure ring; the opposing surfaces of the pressure ring and the check ring comprise a pair of guide ring surfaces, the guide ring surfaces tilting outward at the same angle relative to the center lines in the vertical direction of the base; and when the base driving mechanism drives the base to ascend, the pair of guide ring surfaces mutually contact and move toward each other so as to position the pressure ring and the base. The bearing device of the present invention directly positions the pressure ring and the base, thus improving positioning accuracy, simplifying the work flow and device structure, and reducing manufacturing costs.
(FR)L'invention concerne un dispositif support et un appareil de traitement par plasma, comprenant une base, un mécanisme d'entraînement de la base, un anneau de pression et une bague de verrouillage : la base est utilisée pour porter une pièce usinée ; le mécanisme d'entraînement de la base est utilisé pour entraîner la base pour la faire monter vers une position de traitement ou descendre vers une position de déchargement ; l'anneau de pression est utilisé pour appuyer fortement sur la zone de bord de la pièce usinée placée sur la base lorsque la base est dans la position de traitement ; la bague de verrouillage entoure la paroi périphérique extérieure de la base et est située au-dessous de l'anneau de pression ; les surfaces en regard de l'anneau de pression et de la bague de verrouillage comprennent une paire de surfaces annulaires de guidage, les surfaces annulaires de guidage étant inclinées vers l'extérieur au même angle par rapport aux lignes centrales dans la direction verticale de la base ; et lorsque le mécanisme d'entraînement de la base entraîne la base pour la faire monter, la paire de surfaces annulaires de guidage viennent en contact l'une de l'autre et se déplacent l'une vers l'autre afin de positionner l'anneau de pression et la base. Le dispositif support selon la présente invention positionne directement l'anneau de pression et la base, ce qui permet d'améliorer la précision du positionnement, de simplifier le déroulement des opérations et la structure du dispositif et de réduire les coûts de fabrication.
(ZH)本发明提供的承载装置及等离子体加工设备,其包括基座、基座驱动机构、压环和挡环,基座用于承载被加工工件;基座驱动机构用于驱动基座上升至工艺位置或下降至卸载位置;压环用于在基座位于工艺位置时压紧置于基座上的被加工工件的边缘区域;挡环环绕在基座的外周壁上,且位于压环的下方;压环与挡环彼此相对的表面包括一对导向环面,其相对于基座竖直方向上的中心线向外倾斜相同角度;并且,在基座驱动机构驱动基座上升的过程中,该对导向环面彼此接触且相向移动,以实现压环与基座的定位。本发明提供的承载装置,其可以直接实现压环与基座的定位,从而不仅可以提高定位的准确度、简化工作流程,而且还可以简化设备结构、降低制造成本。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)