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1. (WO2015123337) APPARATUS AND METHODS FOR COMBINED BRIGHTFIELD, DARKFIELD, AND PHOTOTHERMAL INSPECTION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2015/123337 International Application No.: PCT/US2015/015471
Publication Date: 20.08.2015 International Filing Date: 11.02.2015
IPC:
G01N 21/95 (2006.01) ,G01N 21/39 (2006.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: KLA-TENCOR CORPORATION[US/US]; Kla-tencor Corporation Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventors: NICOLAIDES, Lena; US
MAHADEVAN, Mohan; US
SALNIK, Alex; US
YOUNG, Scott A.; US
Agent: MCANDREWS, Kevin; US
Priority Data:
14/618,58610.02.2015US
61/939,13512.02.2014US
Title (EN) APPARATUS AND METHODS FOR COMBINED BRIGHTFIELD, DARKFIELD, AND PHOTOTHERMAL INSPECTION
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉS POUR L'INSPECTION COMBINÉE DE FOND CLAIR, DE FOND NOIR ET PHOTOTHERMIQUE
Abstract: front page image
(EN) Disclosed are methods and apparatus for detecting defects or reviewing defects in a semiconductor sample. The system has a brightfield (BF) module for directing a BF illumination beam onto a sample and detecting an output beam reflected from the sample in response to the BF illumination beam. The system has a modulated optical reflectance (MOR) module for directing a pump and probe beam to the sample and detecting a MOR output beam from the probe spot in response to the pump beam and the probe beam. The system includes a processor for analyzing the BF output beam from a plurality of BF spots to detect defects on a surface or near the surface of the sample and analyzing the MOR output beam from a plurality of probe spots to detect defects that are below the surface of the sample.
(FR) L'invention concerne des procédés et un appareil permettant de détecter des défauts ou d'observer des défauts dans un échantillon semi-conducteur. Le système comporte un module de fond clair (BF) permettant de diriger un faisceau d'éclairage en BF sur un échantillon et de détecter un faisceau de sortie réfléchi par l'échantillon en réponse au faisceau d'éclairage en BF. Le système comporte un module de réflectance optique modulée (MOR) permettant de diriger un faisceau de pompe et de sonde vers l'échantillon et de détecter un faisceau de sortie à MOR du point de sonde en réponse au faisceau de pompe et au faisceau de sonde. Le système inclut un processeur permettant d'analyser le faisceau de sortie en BF parmi une pluralité de points de BF pour détecter des défauts sur une surface ou près de la surface de l'échantillon et analyser le faisceau de sortie à MOR parmi une pluralité de points de sonde pour détecter des défauts se trouvant sous la surface de l'échantillon.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)