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1. (WO2015122335) THERMOSETTING COMPOSITION HAVING PHOTOALIGNMENT PROPERTIES, ALIGNMENT LAYER, SUBSTRATE WITH ALIGNMENT LAYER, PHASE DIFFERENCE PLATE, AND DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/122335    International Application No.:    PCT/JP2015/053142
Publication Date: 20.08.2015 International Filing Date: 04.02.2015
IPC:
G02F 1/1337 (2006.01), C08F 212/14 (2006.01), G02B 5/30 (2006.01), G02F 1/13363 (2006.01)
Applicants: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Ichigaya-kagacho 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1628001 (JP)
Inventors: MOTOOKA, Mami; (JP).
OKUYAMA, Ken-ichi; (JP)
Agent: YAMASHITA, Akihiko; (JP)
Priority Data:
2014-025947 13.02.2014 JP
2014-233518 18.11.2014 JP
Title (EN) THERMOSETTING COMPOSITION HAVING PHOTOALIGNMENT PROPERTIES, ALIGNMENT LAYER, SUBSTRATE WITH ALIGNMENT LAYER, PHASE DIFFERENCE PLATE, AND DEVICE
(FR) COMPOSITION THERMODURCISSABLE PRÉSENTANT DES PROPRIÉTÉS DE PHOTOALIGNEMENT, COUCHE D'ALIGNEMENT, SUBSTRAT COMPORTANT UNE COUCHE D'ALIGNEMENT, PLAQUE À DIFFÉRENCE DE PHASE, ET DISPOSITIF
(JA) 光配向性を有する熱硬化性組成物、配向層、配向層付基板、位相差板およびデバイス
Abstract: front page image
(EN)The main objective of the present invention is to provide a thermosetting composition having highly sensitive photoalignment properties, and to provide an alignment layer, substrate with alignment layer, phase difference plate, and device that use said composition. The present invention achieves the abovementioned objective by providing a thermosetting composition having photoalignment properties that is characterized by containing a copolymer that has a photoaligning structural unit represented by the belowmentioned formula (1), and a thermally crosslinkable structural unit. Herein, in formula (1): X represents a photoaligning group that generates a photoisomerization reaction or a photodimerization reaction; L1 represents a single bond, -O-, -S-, -COO-, -COS-, -CO-, -OCO-, -OCO(CH2)nCOO-, -OCOCH2CH2OCH2CH2COO-, -OCOC6H4O-, -OCOC6H10O-, -COO(CH2)nO-, -COOC6H4O-, -COOC6H10O-, -O(CH2)nO-, -OC6H4O-, -OC6H10O-, or -(CH2)nO-; n represents 1-4; R­­1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; and k represents 1-5.
(FR)La présente invention a pour principal objectif de procurer une composition thermodurcissable présentant des propriétés de photoalignement hautement sensible, et de procurer une couche d'alignement, un substrat comportant la couche d'alignement, une plaque à différence de phase, et un dispositif qui utilisent ladite composition. La présente invention permet d'atteindre l'objectif susmentionné en procurant une composition thermodurcissable présentant des propriétés de photoalignement qui est caractérisée par le fait qu'elle contient un copolymère qui a un motif structural de photoalignement représenté par la formule (1) mentionnée ci-dessous, et un motif structural réticulable par voie thermique. Dans la description, dans la formule (1) : X représente un groupe de photoalignement qui génère une réaction de photo-isomérisation ou une réaction de photodimérisation ; L1 représente une liaison simple, -O-, -S-, -COO-, -COS-, -CO-, -OCO-, -OCO(CH2)nCOO-, -OCOCH2CH2OCH2CH2COO-, -OCOC6H4O-, -OCOC6H10O-, -COO(CH2)nO-, -COOC6H4O-, -COOC6H10O-, -O(CH2)nO-, -OC6H4O-, -OC6H10O-, ou -(CH2)nO- ; n représente 1 à 4 ; R­­ 1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe organique monovalent ; et k représente 1 à 5.
(JA) 本発明は、高感度な光配向性を有する熱硬化性組成物ならびにそれを用いた配向層、配向層付基板、位相差板およびデバイスを提供することを主目的とする。 本発明は、下記式(1)で表される光配向性構成単位および熱架橋性構成単位を有する共重合体を含有することを特徴とする光配向性を有する熱硬化性組成物を提供することにより、上記目的を達成する。ここで、式(1)中、Xは光異性化反応または光二量化反応を生じる光配向性基、Lは単結合、-O-、-S-、-COO-、-COS-、-CO-、-OCO-、-OCO(CHCOO-、-OCOCHCHOCHCHCOO-、-OCOCO-、-OCOC10O-、-COO(CHO-、-COOCO-、-COOC10O-、-O(CHO-、-OCO-、-OC10O-または-(CHO-、nは1~4、Rは水素原子または1価の有機基、kは1~5を表す。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)