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1. (WO2015122321) ORGANIC SEMICONDUCTOR MATERIAL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/122321    International Application No.:    PCT/JP2015/053004
Publication Date: 20.08.2015 International Filing Date: 03.02.2015
IPC:
C08G 61/12 (2006.01), C07D 513/04 (2006.01), C07F 7/10 (2006.01), C07F 7/22 (2006.01), H01L 51/46 (2006.01)
Applicants: TOYOBO CO., LTD. [JP/JP]; 2-8, Dojima Hama 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308230 (JP)
Inventors: WAKAMIYA, Atsushi; (JP).
HAGIYA, Kazutake; (JP).
HAMAMOTO, Shiro; (JP).
TANAKA, Hikaru; (JP)
Agent: UEKI, Kyuichi; (JP)
Priority Data:
2014-026951 14.02.2014 JP
Title (EN) ORGANIC SEMICONDUCTOR MATERIAL
(FR) MATÉRIAU SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE
(JA) 有機半導体材料
Abstract: front page image
(EN)Provided are: a polymer compound for providing an organic semiconductor material exhibiting excellent conversion efficiency; a starting-material compound having high material design freedom; and methods for producing the same. This polymer compound is characterized by containing a benzobisthiazole structure unit represented by formula (1). (In formula (1), T1 and T2 each independently represent: a thiophene ring which may be substituted with an alkoxy group, a thioalkoxy group, a hydrocarbon group or an organosilyl group; a thiazole ring which may be substituted with a hydrocarbon group or an organosilyl group; or a phenyl group which may be substituted with a hydrocarbon group, an alkoxy group, a thioalkoxy group, an organosilyl group, a halogen atom, or a trifluoromethyl group. In addition, B1 and B2 represent: a thiophene ring which may be substituted with a hydrocarbon group; a thiazole ring which may be substituted with a hydrocarbon group; or an ethylene group.)
(FR)L'invention concerne : un composé polymère pour produire un matériau semi-conducteur organique présentant un excellent rendement de conversion; un composé matériau de départ présentant une grande liberté de conception de matériau; et des procédés de production de celui-ci. Ce composé polymère est caractérisé par le fait qu'il contient une unité de structure benzobisthiazole représentée par la formule (1). (Dans la formule (1), T1 et T2 représentent chacun indépendamment : un cycle thiophène qui peut être substitué par un groupe alcoxy, un groupe thioalcoxy, un groupe hydrocarbure ou un groupe organosilyle; un cycle thiazole qui peut être substitué par un groupe hydrocarbure ou un groupe organosilyle; ou un groupe phényle qui peut être substitué par un groupe hydrocarbure, un groupe alcoxy, un groupe thioalcoxy, un groupe organosilyle, un atome d'halogène ou un groupe trifluorométhyle. En outre, B1 et B2 représentent : un cycle thiophène qui peut être substitué par un groupe hydrocarbure; un cycle thiazole qui peut être substitué par un groupe hydrocarbure; ou un groupe éthylène).
(JA) 変換効率に優れた有機半導体材料を提供する高分子化合物や、材料設計の自由度が高い原材料化合物、および、それらの製造方法を提供する。本発明の高分子化合物は、式(1)で表されるベンゾビスチアゾール構造単位を含むことを特徴とする。[式(1)中、T1、T2は、それぞれ独立に、アルコキシ基、チオアルコキシ基、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基もしくはオルガノシリル基で置換されていてもよいチアゾール環、または、炭化水素基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、オルガノシリル基、ハロゲン原子、もしくは、トリフルオロメチル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。 また、B1、B2は、炭化水素基で置換されていてもよいチオフェン環、炭化水素基で置換されていてもよいチアゾール環、または、エチニレン基を表す。]
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)