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1. (WO2015122293) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING CURED FILM, CURED FILM, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, AND TOUCH PANEL DISPLAY DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/122293    International Application No.:    PCT/JP2015/052636
Publication Date: 20.08.2015 International Filing Date: 30.01.2015
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), C08G 77/48 (2006.01), G03F 7/075 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: ANDO Takeshi; (JP)
Agent: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2014-025343 13.02.2014 JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING CURED FILM, CURED FILM, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, AND TOUCH PANEL DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM DURCI, FILM DURCI, DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE EL ORGANIQUE, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE À PANNEAU TACTILE
(JA) 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機EL表示装置、タッチパネル表示装置
Abstract: front page image
(EN)Provided is a photosensitive resin composition which exhibits good sensitivity and can form a cured film having excellent solvent resistance. Further, provided are: a method for producing a cured film by using a photosensitive resin composition; a cured film; a liquid crystal display device; an organic EL display device; and a touch panel display device. This photosensitive resin composition contains: a polysiloxane (A) having a constituent unit (a1) which has a group obtained by protecting a carboxyl group with an acid-dissociable group and/or a group obtained by protecting a phenolic hydroxyl group with an acid-dissociable group, and a constituent unit (a2) having a crosslinkable group; a photo-acid generator (B) that generates an acid having a pKa value of 3 or lower; and a solvent (C).
(FR)La présente invention concerne une composition de résine photosensible qui présente une bonne sensibilité et peut former un film durci ayant une excellente résistance aux solvants. En outre, l'invention concerne : un procédé de production d'un film durci en utilisant une composition de résine photosensible; un film durci; un dispositif d'affichage à cristaux liquides; un dispositif d'affichage EL organique; et un dispositif d'affichage à panneau tactile. Cette composition de résine photosensible contient : un polysiloxane (A) ayant une unité constituante (a1) qui comprend un groupe obtenu par protection d'un groupe carboxyle avec un groupe dissociable par un acide et/ou un groupe obtenu par protection d'un groupe hydroxyle phénolique avec un groupe dissociable par un acide, et une unité constituante (a2) comportant un groupe réticulable; un générateur de photo-acide (B) qui génère un acide ayant une valeur pKa de 3 ou moins; et un solvant (C).
(JA)感度が良好で、溶剤耐性に優れる硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。また、感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機EL表示装置およびタッチパネル表示装置を提供する。この感光性樹脂組成物は、カルボキシ基が酸分解性基で保護された基、および/または、フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位a1と、架橋性基を有する構成単位a2とを有するポリシロキサンAと、pKaが3以下の酸を発生する光酸発生剤Bと、溶剤Cとを含有する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)