WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2015120996) METHOD OF OPTIMIZING A PROCESS WINDOW
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/120996    International Application No.:    PCT/EP2015/050168
Publication Date: 20.08.2015 International Filing Date: 07.01.2015
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventors: HUNSCHE, Stefan; (US).
VELLANKI, Venugopal; (US)
Agent: PETERS, John; (NL)
Priority Data:
61/939,071 12.02.2014 US
61/943,834 24.02.2014 US
Title (EN) METHOD OF OPTIMIZING A PROCESS WINDOW
(FR) PROCÉDÉ D'OPTIMISATION D'UNE FENÊTRE DE TRAITEMENT
Abstract: front page image
(EN)Disclosed herein is a computer-implemented defect prediction method for a device manufacturing process involving processing a pattern onto a substrate, the method comprising: identifying a processing window limiting pattern (PWLP) from the pattern; determining a processing parameter under which the PWLP is processed; and determining or predicting, using the processing parameter, existence, probability of existence, a characteristic, or a combination thereof, of a defect produced from the PWLP with the device manufacturing process.
(FR)L'invention concerne un procédé de prédiction de défauts mis en œuvre par ordinateur pour un procédé de fabrication de dispositifs impliquant le traitement d'un motif sur un substrat, le procédé comprenant les étapes suivantes : identification d'un motif de limitation de la fenêtre de traitement (PWLP) à partir du motif; détermination d'un paramètre de traitement sous lequel le motif PWLP est traité; et détermination et prédiction, au moyen du paramètre de traitement, de l'existence, de la probabilité d'existence, d'une caractéristique ou d'une combinaison de ces dernières, d'un défaut produit à partir du motif PWLP avec le processus de fabrication de dispositifs.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)