WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2015120889) DEVICE AND METHOD FOR PROTECTING A VACUUM ENVIRONMENT AGAINST LEAKAGE, AND EUV RADIATION-GENERATING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/120889    International Application No.:    PCT/EP2014/052798
Publication Date: 20.08.2015 International Filing Date: 13.02.2014
IPC:
H05G 2/00 (2006.01), G02B 7/00 (2006.01), H01S 3/00 (2006.01)
Applicants: TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH [DE/DE]; Johann-Maus-Strasse 2 71254 Ditzingen (DE)
Inventors: ENZMANN, Andreas; (DE).
VOLZ, Björn; (DE)
Agent: KOHLER SCHMID MÖBUS; Ruppmannstr. 27 70565 Stuttgart (DE)
Priority Data:
Title (DE) EINRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM SCHUTZ EINER VAKUUM-UMGEBUNG VOR LECKAGE UND EUV-STRAHLUNGSERZEUGUNGSVORRICHTUNG
(EN) DEVICE AND METHOD FOR PROTECTING A VACUUM ENVIRONMENT AGAINST LEAKAGE, AND EUV RADIATION-GENERATING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR PROTÉGER UN ENVIRONNEMENT DE VIDE CONTRE LES FUITES, ET DISPOSITIF DE PRODUCTION D'UN RAYONNEMENT EUV
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Einrichtung (20) zum Schutz einer Vakuum-Umgebung vor Leckage, umfassend: eine optische Komponente (21) zum gasdichten Abschluss der Vakuum-Umgebung, eine Kühleinrichtung (25) zum Kühlen der optischen Komponente (21) durch Zuführen eines Kühlmediums (24) zu einem gasdicht von der Vakuum-Umgebung getrennten Kühlbereich (23), in dem ein erster Teilbereich (21a) der optischen Komponente (21) angeordnet ist, eine Unterdruckerzeugungseinrichtung (28) zur Erzeugung eines Unterdrucks (pu) in einem gasdicht von der Vakuum-Umgebung und von dem Kühlbereich (23) getrennten Unterdruckbereich (31), in dem ein zweiter Teilbereich (21b) der optischen Komponente (21) angeordnet ist, sowie eine Detektionseinrichtung (33) zur Detektion einer Leckage an der optischen Komponente (21) beim Überströmen des Kühlmediums (24) von dem Kühlbereich (23) in den Unterdruckbereich (31) und/oder in die Vakuum-Umgebung (4a). Die Erfindung betrifft auch eine EUV-Strahlungserzeugungsvorrichtung mit einer solchen Einrichtung (20) sowie ein zugehöriges Verfahren.
(EN)The invention relates to a device (20) for protecting a vacuum environment against leakage, comprising: an optical component (21) for closing off the vacuum environment in a gas-tight manner, a cooling device (25) for cooling the optical component (21) by supplying a cooling medium (24) to a cooling region (23) which is separated from the vacuum environment in a gas-tight manner and in which a first subregion (21a) of the optical component (21) is arranged, a negative pressure-generating device (28) for generating a negative pressure (pu) in a negative-pressure region (31) which is separated from the vacuum environment and from the cooling region (23) in a gas-tight manner and in which a second subregion (21b) of the optical component (21) is arranged, and also a detection device (33) for detecting a leakage at the optical component (21) as the cooling medium (24) flows across from the cooling region (23) to the negative-pressure region (31) and/or to the vacuum environment (4a). The invention also relates to an EUV radiation-generating apparatus having a device (20) of this kind, and also to an associated method.
(FR)L'invention concerne un dispositif (20) destiné à protéger un environnement de vide contre les fuites, comprenant : un composant optique (21) destiné à fermer l'environnement de vide de manière étanche aux gaz, un dispositif de refroidissement (25) destiné à refroidir le composant optique (21) par acheminement d'un milieu de refroidissement (24) à une région de refroidissement (23) qui est isolée de l'environnement de vide de manière étanche aux gaz et dans laquelle est située une première région partielle (21a) du composant optique (21), un dispositif de production de dépression (28) destiné à produire une dépression (pu) dans une région de dépression (31) qui est isolée de manière étanche aux gaz de l'environnement de vide et de la région de refroidissement (23) et dans laquelle est disposée une seconde région partielle (21b) du composant optique (21), ainsi qu'un dispositif de détection (33) destiné à détecter une fuite sur le composant optique (21) lorsque le milieu de refroidissement (24) déborde de la région de refroidissement (23) dans la région de dépression (31) et/ou dans l'environnement de vide (4a). L'invention concerne en outre un dispositif de production de rayonnement EUV équipé d'un tel dispositif (20) ainsi qu'un procédé correspondant.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)