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1. (WO2015120269) CMP METHOD FOR SUPPRESSION OF TITANIUM NITRIDE AND TITANIUM/TITANIUM NITRIDE REMOVAL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/120269    International Application No.:    PCT/US2015/014815
Publication Date: 13.08.2015 International Filing Date: 06.02.2015
IPC:
H01L 21/304 (2006.01)
Applicants: CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION [US/US]; 870 North Commons Drive Aurora, Illinois 60504 (US)
Inventors: HOU, Hui-Fang; (US).
WARD, William; (US).
YEH, Ming-Chih; (US).
TSAI, Chih-Pin; (US)
Agent: OMHOLT, Thomas; (US)
Priority Data:
61/936,009 05.02.2014 US
Title (EN) CMP METHOD FOR SUPPRESSION OF TITANIUM NITRIDE AND TITANIUM/TITANIUM NITRIDE REMOVAL
(FR) PROCÉDÉ CMP POUR SUPPRESSION DE NITRURE DE TITANE ET RETRAIT DE TITANE/NITRURE DE TITANE
Abstract: front page image
(EN)A chemical mechanical polishing (CMP) method for removal of a metal layer deposited over a titanium nitride (TiN) or titanium/titanium nitride (Ti/TiN) barrier layer is described herein. The method comprises abrading the metal layer with an acidic CMP composition to expose the underlying TiN or Ti/TiN layer, wherein the TiN or Ti/N layer is polished at a low rate due to the presence of a surfactant inhibitor. The acidic CMP composition comprises a particulate abrasive (e.g., silica, alumina) suspended in a liquid carrier containing a surfactant selected from the group consisting of an anionic surfactant, a nonionic surfactant, cation surfactants, and a combination thereof.
(FR)L'invention porte sur un procédé de polissage mécanique chimique (CMP) pour le retrait d'une couche métallique déposée sur une couche de barrière de nitrure de titane (TiN) ou de titane/nitrure de titane (Ti/TiN). Le procédé consiste à abraser la couche métallique au moyen d'une composition CMP acide pour présenter la couche de TiN ou Ti/TiN sous-jacente, la couche de TiN ou Ti/TiN étant polie à une vitesse faible en raison de la présence d'un agent tensioactif inhibiteur. La composition CMP acide comprend un abrasif particulaire (par exemple, de la silice, de l'alumine) en suspension dans un liquide porteur contenant un agent tensioactif choisi dans le groupe constitué d'un agent tensioactif anionique, d'un agent tensioactif non ionique, d'agents tensioactifs de cations, et d'une combinaison de ces derniers.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)