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1. (WO2015119616) PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITIONS FOR ELECTROLESS PLATING METHODS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2015/119616 International Application No.: PCT/US2014/015229
Publication Date: 13.08.2015 International Filing Date: 07.02.2014
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01)
Applicants: EASTMAN KODAK COMPANY[US/US]; 343 State Street Rochester, NY 14650-2201, US
Inventors: SHUKLA, Deepark; US
MIS, Mark, R.; US
Priority Data:
Title (EN) PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITIONS FOR ELECTROLESS PLATING METHODS
(FR) COMPOSITIONS PHOTOPOLYMÉRISABLES POUR PROCÉDÉS DE DÉPÔT AUTOCATALYTIQUE
Abstract:
(EN) A photopolymerizable composition has seven essential components: (a) a photopolymerizable epoxy material, (b) a photoacid generator such as an onium salt, (c) electron acceptor photosensitizer, (d) an electron donor co-initiator having an oxidation potential of 0.1 V to 3 V vs. SCE, (e) metal particles, and in some embodiments, (f) one or more free radically polymerizable compounds, and (g) one or more free radical photoinitiators. This photopolymerizable composition can be applied or printed onto one or both sides of various substrates to form articles that can be used to form electrically conductive materials. Methods for using the photopolymerizable compositions include electroless plating methods that can be carried out in roll-to-roll printing and plating systems once various photocured patterns are formed from the photopolymerizable compositions.
(FR) L'invention concerne une composition photopolymérisable comprenant sept composants essentiels: (a) un matériau époxy photopolymérisable, (b) un générateur d'acide photosensible tel qu'un sel d'onium, (c) un photosensibilisateur accepteur d'électrons, (d) un co-initiateur donneur d'électrons présentant un potentiel d'oxydation de 0,1 V à 3 V vis-à-vis du SCE, (e) des particules de métal et, dans certains modes de réalisation, (f) un ou plusieurs composés polymérisables par radicaux libres, et (g) un ou plusieurs photo-initiateurs à radicaux libres. Cette composition photopolymérisable peut être appliquée ou imprimée sur une ou les deux faces de divers substrats pour former des articles qui peuvent être utilisés pour former des matériaux électriquement conducteurs. Parmi les procédés d'utilisation des compositions photopolymérisables figurent les procédés de dépôt autocatalytique, qui peuvent être réalisés dans des systèmes d'impression et de dépôt rouleau sur rouleau une fois que divers motifs photo-durcis sont formés à partir des compositions photopolymérisables.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)