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1. (WO2015119286) METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING AMOUNT OF HOT DIP GALVANIZATION ADHESION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/119286    International Application No.:    PCT/JP2015/053575
Publication Date: 13.08.2015 International Filing Date: 10.02.2015
IPC:
C23C 2/20 (2006.01)
Applicants: PRIMETALS TECHNOLOGIES JAPAN, LTD. [JP/JP]; 34-6, Shiba 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1080014 (JP).
NISSHIN STEEL CO., LTD. [JP/JP]; 3-4-1, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1008366 (JP)
Inventors: SUEMORI, Hideaki; (JP).
TANAKA, Masayoshi; (JP).
KAKEMIZU, Norikatsu; (JP).
YAMAMOTO, Takashi; (JP).
MORISHITA, Hisao; (JP).
YAMASHITA, Ryuuichi; (JP)
Agent: MITSUISHI, Toshiro; (JP)
Priority Data:
2014-023019 10.02.2014 JP
Title (EN) METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING AMOUNT OF HOT DIP GALVANIZATION ADHESION
(FR) MÉTHODE ET DISPOSITIF DE RÉGULATION D’UNE QUANTITÉ D'ADHÉSION EN GALVANISATION AU TREMPÉ À CHAUD
(JA) 溶融金属めっき付着量制御装置及び方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention is provided with: a duct of which one end interconnects to a wiping nozzle (22, 23) and the other end is open; a first valve (17) that controls the actual gas pressure (P1') of the wiping nozzle (22, 23); a second valve (18) that controls the gas flow rate (Q2) dissipating to outside the system from another branched duct; a wiping pressure setting unit (11) that sets the set gas pressure (P1) of the wiping nozzle (22, 23); a first valve aperture setter (13) that sets the valve aperture of the first valve (17); a second valve aperture setter (14) that sets the valve aperture of the second valve (18); and a computation processing unit (12) that presents to the first valve aperture setter (13) the valve aperture at which the gas pressure (P1') matches a set gas pressure (P1), and presents to the second valve aperture setter (14) the valve aperture at which the total gas flow rate (QT) supplied from a gas supply device (15) becomes uniform.
(FR)La présente invention concerne : un conduit dont l’une des extrémités est reliée à une buse d'essuyage (22, 23) et l'autre extrémité est ouverte ; une première soupape (17) qui régule la pression de gaz réelle (P1') de la buse d'essuyage (22, 23) ; une deuxième soupape (18) qui régule le débit de gaz (Q2) se dissipant vers l'extérieur du système à partir d'un autre conduit ramifié ; une unité de réglage de pression d'essuyage (11) qui règle la pression de gaz de consigne (P1) de la buse d'essuyage (22, 23) ; un dispositif de réglage d’ouverture de première soupape (13) qui règle l'ouverture de soupape de la première soupape (17) ; un dispositif de réglage d’ouverture de deuxième soupape (14) qui règle l'ouverture de soupape de la deuxième soupape (18) ; et une unité de traitement de calcul (12) qui présente au dispositif de réglage d’ouverture de première soupape (13) l'ouverture de la soupape pour laquelle la pression de gaz (P1') correspond à une pression de gaz de consigne (P1), et présente au dispositif de réglage d’ouverture de deuxième soupape (14) l'ouverture de la soupape pour laquelle le débit de gaz total (QT) fourni par un dispositif d'alimentation en gaz (15) devient uniforme.
(JA)一方はワイピングノズル(22,23)に連通し、他方は開放される管路と、ワイピングノズル(22,23)の実際のガス圧力P1´を制御する第1弁(17)と、分岐した他方の管路から系外へ放散されるガス流量Q2を制御する第2弁(18)と、ワイピングノズル(22,23)の設定ガス圧力P1を設定するワイピング圧力設定部(11)と、第1弁(17)の弁開度を設定する第1弁開度設定器(13)と、第2弁(18)の弁開度を設定する第2弁開度設定器(14)と、ガス圧力P1´を設定ガス圧力P1と一致させる弁開度を第1弁開度設定器(13)へ指示し、ガス供給装置(15)から供給される全ガス流量QTが一定となる弁開度を第2弁開度設定器(14)に指示する演算処理部(12)とを備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)