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1. (WO2015118947) WIRING FILM FOR FLAT PANEL DISPLAY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2015/118947 International Application No.: PCT/JP2015/051561
Publication Date: 13.08.2015 International Filing Date: 21.01.2015
IPC:
H01L 21/28 (2006.01) ,C22C 21/00 (2006.01) ,C23C 14/34 (2006.01) ,H01L 21/285 (2006.01) ,H01L 21/3205 (2006.01) ,H01L 21/768 (2006.01) ,H01L 23/532 (2006.01)
Applicants: KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO(KOBE STEEL, LTD.)[JP/JP]; 2-4, Wakinohama-Kaigandori 2-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6518585, JP
Inventors: GOTO, Hiroshi; null
IWANARI, Yumi; null
Agent: UEKI, Kyuichi; JP
Priority Data:
2014-02282207.02.2014JP
Title (EN) WIRING FILM FOR FLAT PANEL DISPLAY
(FR) FILM DE CÂBLAGE POUR DISPOSITIF D'AFFICHAGE À ÉCRAN PLAT
(JA) フラットパネルディスプレイ用配線膜
Abstract: front page image
(EN) This wiring film for a flat panel display comprises a laminate structure which is formed by laminating a first layer, which includes at least one type of high melting-point metal selected from the group consisting of Mo, Ti, Cr, W, and Ta, and a second layer, which comprises an Al alloy that includes at least 0.01 atom% but less than 0.2 atom% of at least one from among the rare earth elements, Ni, and Co. In this wiring film, even when subjected to a thermal history of high temperatures from 400-500°C, inclusive, increase in wiring resistance is suppressed, hillocks or the like do not occur, and heat resistance is excellent.
(FR) La présente invention concerne un film de câblage pour dispositif d'affichage à écran plat qui comporte une structure stratifiée qui est formée par stratification d'une première couche, qui comprend au moins un type de métal à point de fusion élevé, choisi dans le groupe comprenant Mo, Ti, Cr, W et Ta, et d'une seconde couche, qui comprend un alliage d'Al qui contient au moins 0,01% atomique (at%) mais moins de 0,2% atomique d'au moins un élément parmi les éléments des terres rares, Ni et Co. Dans ce film de câblage, même lorsqu'il est soumis à un passé thermique de températures élevées de 400 à 500°C inclus, une augmentation de la résistance de câblage est supprimée, des bosses ou autres n'apparaissent pas et la résistance à la chaleur est excellente.
(JA)  本発明のフラットパネルディスプレイ用配線膜は、Mo、Ti、Cr、W、およびTaよりなる群から選択される少なくとも一種以上の高融点金属を含む第一層と;希土類元素、Ni、およびCoのうち少なくとも一種以上を0.01原子%以上、0.2原子%未満含むAl合金からなる第二層とが積層された積層構造からなる。該配線膜は、400℃以上500℃以下の高温の熱履歴を受けても、配線抵抗の上昇が抑えられ、ヒロックなどの発生もなく、耐熱性に優れる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)