WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2015118785) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, IMAGE GENERATION METHOD, OBSERVATION SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/118785    International Application No.:    PCT/JP2014/084019
Publication Date: 13.08.2015 International Filing Date: 24.12.2014
IPC:
H01J 37/244 (2006.01), H01J 37/18 (2006.01), H01J 37/28 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
Inventors: OMINAMI Yusuke; (JP).
KATANE Junichi; (JP).
KAWANISHI Shinsuke; (JP).
ITO Sukehiro; (JP)
Agent: INOUE Manabu; (JP)
Priority Data:
2014-020904 06.02.2014 JP
Title (EN) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, IMAGE GENERATION METHOD, OBSERVATION SYSTEM
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES, PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION D'IMAGE ET SYSTÈME D'OBSERVATION
(JA) 荷電粒子線装置、画像生成方法、観察システム
Abstract: front page image
(EN) Provided is a charged particle beam device capable of observing the interior and the surface of a sample in a simple manner. This charged particle beam device operates in a transmitted charged particle image mode and a secondary charged particle image mode. In the transmitted charged particle image mode, a transmitted charged particle image is produced on the basis of a detection signal (512) associated with light emitted from a light-emitting member (500) that emits light upon being irradiated with transmitted charged particles transmitted through the interior of a sample (6). In the secondary charged particle image mode, a secondary charged particle image is produced on the basis of a detection signal (518) caused by reflected charged particles or secondary charged particles (517) from the sample (6).
(FR) La présente invention concerne un dispositif à faisceau de particules chargées permettant d'observer l'intérieur et la surface d'un échantillon d'une manière simple. Ce dispositif à faisceau de particules chargées fonctionne dans un mode d'imagerie de particules chargées transmises et un mode d'imagerie de particules chargées secondaires. Dans le mode d'imagerie de particules chargées transmises, une image de particules chargées transmises est produite sur la base d'un signal de détection (512) associé à de la lumière émise par un élément émetteur de lumière (500) qui émet de la lumière lorsqu'il est exposé à des particules chargées transmises ayant été transmises à travers l'intérieur d'un échantillon (6). Dans le mode d'imagerie de particules chargées secondaires, une image de particules chargées secondaires est produite sur la base d'un signal de détection (518) causé par des particules chargées réfléchies ou particules chargées secondaires (517) provenant de l'échantillon (6).
(JA) 試料内部及び表面の観察を簡便に行うことができる荷電粒子線装置を提供する。本発明の荷電粒子線装置は、試料(6)の内部を透過した透過荷電粒子が照射されることで発光する発光部材(500)からの光の検出信号(512)に基づいて透過荷電粒子画像を生成する透過荷電粒子画像モードと、試料(6)からの二次荷電粒子(517)または反射荷電粒子に起因する検出信号(518)に基づいて二次的荷電粒子画像を生成する二次的荷電粒子画像モードで動作する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)