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1. (WO2015118627) ELECTRICAL CONTACT MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/118627    International Application No.:    PCT/JP2014/052628
Publication Date: 13.08.2015 International Filing Date: 05.02.2014
IPC:
H01B 5/02 (2006.01), C25D 5/10 (2006.01), C25D 7/00 (2006.01), H01B 1/02 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01), H01H 1/04 (2006.01), H01H 1/06 (2006.01)
Applicants: FURUKAWA ELECTRIC CO., LTD. [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008322 (JP)
Inventors: KOBAYASHI, Yoshiaki; (JP).
SUZUKI, Satoshi; (JP)
Agent: IIDA, Toshizo; ISHII Bldg. 3F, 1-10, Shimbashi 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1050004 (JP)
Priority Data:
Title (EN) ELECTRICAL CONTACT MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) MATÉRIAU DE CONTACT ÉLECTRIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 電気接点材料及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)[Problem] To provide a high long-term reliability electrical contact material, and a manufacturing method thereof, which exhibits excellent abrasion resistance at sliding loads of 50gf or above, even high 100gf loads; which can be used in harsh environments, in particular those involving long-term atmospheric exposure; and which can greatly suppress increases in contact resistance of the electrical contact material even in accelerated tests in corrosive environments, such as H2S gas or SO2 gas environments. [Solution] An electrical contact material, and a manufacturing method thereof, which comprises a first noble metal layer (2) on the surface of a conductive substrate (1) and comprises a second noble metal layer (3) on the surface of the first noble metal layer (2), wherein it holds of the arithmetic average roughness Ra=Aμm of the surface of the first noble metal layer that A<1; the hardness Hv of the first noble metal layer is 150 or greater; the thickness of the second noble metal layer exceeds Aμm and is less than or equal to 1μm; and it holds of the arithmetic average roughness Ra=Bμm of the surface of the second noble metal layer that B≦0.1.
(FR)Le problème décrit par l'invention est de pourvoir à un matériau de contact électrique à haute fiabilité à long terme, et son procédé de fabrication, qui présente une excellente résistance à l'abrasion à des charges de glissement de 50 gf ou plus, même de hautes charges de 100 gf; qui puisse être utilisé dans des environnements difficiles, en particulier ceux impliquant une exposition atmosphérique à long terme; et qui puisse largement supprimer des augmentations de résistance de contact du matériau de contact électrique même dans des essais accélérés dans des environnements corrosifs, tels que des environnements de gaz H2S ou de gaz SO2. La solution de l'invention concerne un matériau de contact électrique, et son procédé de fabrication, qui comprend une première couche de métal noble (2) sur la surface d'un substrat conducteur (1) et comprend une seconde couche de métal noble (3) sur la surface de la première couche de métal noble (2), la rugosité moyenne arithmétique Ra = A μm de la surface de la première couche de métal noble vérifiant A < 1; la dureté Hv de la première couche de métal noble étant de 150 ou plus; l'épaisseur de la seconde couche de métal noble étant supérieure à A μm et étant inférieure ou égale à 1 μm; et la rugosité moyenne arithmétique Ra = B μm de la surface de la seconde couche de métal noble vérifiant B ≦ 0,1.
(JA)【課題】摺動荷重が50gf以上、例えば100gf程度の高荷重になっても優れた耐磨耗性を示すとともに、特に長時間大気に晒されるような過酷な環境でも使用でき、例えばHSガスやSOガス雰囲気下などの腐食環境での加速試験後においても電気接点材料の接触抵抗上昇を大幅に抑制することができて、長期信頼性の高い電気接点材料およびその製造方法を提供すること。 【解決手段】導電性基体1の表面上に第1貴金属層2を有し、前記第1貴金属層2の表面上に第2貴金属層3を有する電気接点材料であって、前記第1貴金属層の表面の算術平均粗さRa=AμmがA<1であり、かつ該第1貴金属層の硬度Hvが150以上であり、前記第2貴金属層の厚さがAμmを超えて1μm以下であり、かつ該第2貴金属層の表面の算術平均粗さRa=BμmがB≦0.1である電気接点材料及びその製造方法。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)