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1. (WO2015116500) ELECTROSTATIC CHUCK WITH MAGNETIC CATHODE LINER FOR CRITICAL DIMENSION (CD) TUNING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/116500    International Application No.:    PCT/US2015/012720
Publication Date: 06.08.2015 International Filing Date: 23.01.2015
IPC:
H01L 21/683 (2006.01), H02N 13/00 (2006.01), B23Q 3/15 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: WILLWERTH, Michael D.; (US).
HSU, Chih-Hsun; (US).
TODOROW, Valentin N.; (US)
Agent: BERNADICOU, Michael A.; (US)
Priority Data:
14/169,528 31.01.2014 US
Title (EN) ELECTROSTATIC CHUCK WITH MAGNETIC CATHODE LINER FOR CRITICAL DIMENSION (CD) TUNING
(FR) MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE DOTÉ D'UN REVÊTEMENT CATHODIQUE MAGNÉTIQUE POUR ACCORD DE DIMENSION CRITIQUE (DC)
Abstract: front page image
(EN)Electrostatic chucks with magnetic cathode liners for critical dimension (CD) tuning are described. For example, an electrostatic chuck (ESC) includes a cathode region. A wafer processing region is disposed above the cathode region. A magnetic cathode liner surrounds the cathode region, below the wafer processing region. The magnetic cathode liner is configured to provide magnetic field tuning capability for the ESC.
(FR)L'invention concerne des mandrins électrostatiques dotés de revêtements cathodiques magnétiques pour un accord de dimension critique (DC). Par exemple, un mandrin électrostatique (ESC) comprend une région de cathode. Une région de traitement de plaquette est disposée au-dessus de la région de cathode. Un revêtement cathodique magnétique entoure la région de cathode, sous la région de traitement de plaquette. Le revêtement cathodique magnétique est conçu pour fournir une capacité d'accord de champ magnétique pour l'ESC.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)