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1. (WO2015116245) GAS CONFINER ASSEMBLY FOR ELIMINATING SHADOW FRAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/116245    International Application No.:    PCT/US2014/040969
Publication Date: 06.08.2015 International Filing Date: 05.06.2014
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01), C23C 16/50 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: ZHAO, Lai; (US).
WANG, Qunhua; (US).
TINER, Robin L.; (US).
CHOI, Soo Young; (US).
PARK, Beom Soo; (US)
Agent: PATTERSON, B. Todd; (US)
Priority Data:
61/933,823 30.01.2014 US
Title (EN) GAS CONFINER ASSEMBLY FOR ELIMINATING SHADOW FRAME
(FR) ENSEMBLE DE CONFINEMENT DES GAZ PERMETTANT DE SUPPRIMER UN CADRE DE MASQUAGE
Abstract: front page image
(EN)The present disclosure relates to a gas confiner assembly designed to improve the non-uniformity of the deposition rate by confining the gas flow and changing the local gas flow distribution with a barrier bar on the substrate support surface near the edge regions of the substrate. The material, size, shape and other features of the gas confiner assembly can be varied based on the processing requirements and associated deposition rates. In one embodiment, a gas confiner assembly for a processing chamber includes a gas confiner configured to decrease gas flow and compensate for high deposition rates on edge regions of substrates. The gas confiner assembly also includes a cover disposed below the gas confiner. The cover is configured to prevent a substrate support from being exposed to plasma.
(FR)La présente invention se rapporte à un ensemble de confinement des gaz conçu pour améliorer la non-uniformité de la vitesse de dépôt par confinement de l'écoulement gazeux et par modification de la répartition locale de l'écoulement gazeux avec une barre formant barrière sur la surface de support de substrat près des régions périphériques du substrat. Le matériau, la taille, la forme et d'autres caractéristiques de l'ensemble de confinement des gaz peuvent être modifiés sur la base des besoins de traitement et des vitesses de dépôt associées. Selon un mode de réalisation, un ensemble de confinement des gaz pour une chambre de traitement comprend un dispositif de confinement des gaz configuré pour réduire l'écoulement gazeux et compenser les vitesses de dépôt élevées sur les régions périphériques des substrats. L'ensemble de confinement des gaz comprend également un couvercle disposé sous le dispositif de confinement des gaz. Le couvercle est configuré pour empêcher l'exposition d'un support de substrat à un plasma.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)