WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2015116044) COLLOIDAL HIGH ASPECT RATIO NANOSILICA ADDITIVES IN SEALANTS AND METHODS RELATING THERETO
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/116044    International Application No.:    PCT/US2014/013492
Publication Date: 06.08.2015 International Filing Date: 29.01.2014
IPC:
C09K 8/50 (2006.01), C09K 8/03 (2006.01), E21B 33/138 (2006.01)
Applicants: HALLIBURTON ENERGY SERVICES, INC. [US/US]; 10200 Bellaire Boulevard Houston, Texas 77072 (US)
Inventors: BOUL, Peter James; (US).
REDDY, B. Raghava; (US).
PANG, Xueyu; (US).
CUELLO JIMENEZ, Walmy; (US)
Agent: KAISER, Iona; McDermott Will & Emery LLP 500 North Capitol Street, N.W. Washington, District of Columbia 20001 (US)
Priority Data:
Title (EN) COLLOIDAL HIGH ASPECT RATIO NANOSILICA ADDITIVES IN SEALANTS AND METHODS RELATING THERETO
(FR) ADDITIFS COLLOÏDAUX DE NANOSILICE À RAPPORT D'ALLONGEMENT ÉLEVÉ DANS LES JOINTS, ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS
Abstract: front page image
(EN)Colloidal high aspect ratio nanosilica additives that comprise colloidal high aspect ratio nanosilica particles having an average diameter of about 100 nm or less and an average aspect ratio of about 1.5 or greater may be useful in forming sealants in a wellbore, a subterranean formation, or both. For example, a method may include introducing a wellbore fluid into a wellbore penetrating a subterranean formation, the wellbore fluid comprising an aqueous base fluid, an activator, and a colloidal high aspect ratio nanosilica additive; placing the wellbore fluid into a portion of the wellbore, a portion of the subterranean formation, or both; and forming a sealant that comprises the colloidal high aspect ratio nanosilica additive therein.
(FR)L'invention concerne des additifs colloïdaux de nanosilice à rapport d'allongement élevé qui comprennent des particules colloïdales de nanosilice à rapport d'allongement élevé d'un diamètre moyen d'environ 100 nm ou moins et d'un rapport d'allongement moyen d'environ 1,5 ou plus, lesdits additifs étant utilisés pour former des joints dans les puits de forage, les formations souterraines, ou les deux. L'invention concerne également un procédé qui peut, par exemple, consister à introduire un liquide pour puits de forage dans un puits de forage pénétrant une formation souterraine, ledit liquide comprenant une base aqueuse, un activateur et un additif colloïdal de nanosilice à rapport d'allongement élevé ; à introduire le liquide dans une partie du puits de forage, une partie de la formation souterraine, ou les deux ; et à obtenir un joint comprenant l'additif colloïdal de nanosilice à rapport d'allongement élevé.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)