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1. (WO2015115664) SILANOL COMPOUND, COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING SILANOL COMPOUND
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/115664    International Application No.:    PCT/JP2015/052996
Publication Date: 06.08.2015 International Filing Date: 03.02.2015
IPC:
C07F 7/08 (2006.01), B01J 23/44 (2006.01), C07B 61/00 (2006.01)
Applicants: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 3-1, Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008921 (JP)
Inventors: IGARASHI, Masayasu; (JP).
SHIMADA, Shigeru; (JP).
SATO, Kazuhiko; (JP).
MATSUMOTO, Tomohiro; (JP)
Agent: KAWAGUCHI, Yoshiyuki; (JP)
Priority Data:
2014-018925 03.02.2014 JP
Title (EN) SILANOL COMPOUND, COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING SILANOL COMPOUND
(FR) COMPOSÉ SILANOL, COMPOSITION, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DUDIT COMPOSÉ SILANOL
(JA) シラノール化合物、組成物、及びシラノール化合物の製造方法
Abstract: front page image
(EN) The purpose of the present invention is to provide silanol compounds that can be used as raw materials of siloxane compounds and the like, and a composition of the silanol compounds, as well as to provide a production method that makes it possible to produce silanol compounds at excellent yield. A composition containing from 10 mass% to less than 100 mass% of silanol compounds represented by formulas (A)-(C) can be prepared by devising to produce silanol compounds under water-free conditions, to produce silanol compounds in a solvent having the effect of suppressing the condensation of silanol compounds, and to perform other such processes, the composition being able to be used as a raw material or the like of siloxane compounds because the silanol compounds can be stably present in the resulting composition. (In formulas (B) and (C), each R1 independently represents a C 1-5 hydrocarbon group.)
(FR) L'objet de la présente invention est de fournir des composés silanol qui peuvent être utilisés comme matières premières de composés siloxane et analogues, et une composition des composés silanol, ainsi que de fournir un procédé de production permettant de produire des composés silanol à un excellent rendement. Une composition contenant de 10 % en masse à moins de 100 % en masse des composés silanol représentés par les formules (A) à (C) peut être préparée selon l'invention pour produire des composés silanol dans des conditions anhydres, pour produire des composés silanol dans un solvant ayant comme effet de supprimer la condensation des composés silanol, et pour mettre en œuvre d'autres procédés équivalents, la composition pouvant être utilisée comme matière première ou analogue des composés siloxane car les composés silanol peuvent être présents de manière stable dans la composition ainsi obtenue. (Dans les formules (B) et (C), chaque R1 représente indépendamment un groupe hydrocarbure en C1-5).
(JA) シロキサン化合物の原料等として利用することができるシラノール化合物やその組成物を提供すること、さらにシラノール化合物を良好な収率で製造することができる製造方法を提供することを目的とする。無水条件でシラノール化合物を製造したり、シラノール化合物の縮合を抑える作用がある溶媒中でシラノール化合物を製造したりする等の工夫をすることにより、式(A)~(C)で表されるシラノール化合物を10質量%以上100質量%未満含んだ組成物を調製することができるとともに、得られた組成物においてシラノール化合物が安定的に存在できるため、この組成物がシロキサン化合物の原料等として活用することができる。 (式(B)及び(C)中、Rはそれぞれ独立に炭素数1~5の炭化水素基を表す。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)