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1. (WO2015115660) GAS SENSOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/115660    International Application No.:    PCT/JP2015/052950
Publication Date: 06.08.2015 International Filing Date: 03.02.2015
IPC:
G01N 27/416 (2006.01), G01N 27/409 (2006.01)
Applicants: DENSO CORPORATION [JP/JP]; 1-1, Showa-cho, Kariya-city, Aichi 4488661 (JP)
Inventors: HINO, Satoshi; (JP)
Agent: KIKUCHI, Yasuhiro; (JP)
Priority Data:
2014-018698 03.02.2014 JP
Title (EN) GAS SENSOR
(FR) CAPTEUR DE GAZ
(JA) ガスセンサ
Abstract: front page image
(EN)Provided is a gas sensor for which it is possible to form more electrode pads without enlarging a gas sensor element and it is possible to satisfactorily cause spring terminals to come into contact with individual electrode pads. A gas sensor is provided with a gas sensor element (2) that has a plurality of electrode pads (22) formed in a base end part (21). A contact unit (3) comprising a base-end side insulator (4) and a plurality of spring terminals (5) is attached to the base end part (21). The base-end side insulator (4) has, formed therein, an accommodation hole (40) for accommodating the base end part (21) and retention grooves (41). The spring terminals (5) are formed from spring wires (500). Each spring terminal (5) is provided with a main body (50), an extending part (52), and a contact formation part (53). The contact formation parts (53) are urged toward electrode pad (22) sides by the elastic force of the spring terminals (5). The contact unit (3) is configured so that in a state before the base end part (21) is accommodated in the accommodation hole (40), portions of the contact formation parts (53) are positioned within the retention grooves (41).
(FR)L'invention concerne un capteur de gaz pour lequel il est possible de former plusieurs pastilles d'électrode sans agrandir un élément de capteur de gaz et il est possible d'amener de façon satisfaisante des bornes hélicoïdales à venir en contact avec les pastilles d'électrode individuelles. Un capteur de gaz est doté d'un élément (2) de capteur de gaz qui possède une pluralité de pastilles (22) d'électrode formées dans une partie extrémité de base (21). Une unité de contact (3) comprenant un isolateur (4) du côté extrémité de base et une pluralité de bornes hélicoïdales (5) est fixée à la partie extrémité de base (21). L'isolateur (4) du côté extrémité de base possède, formé en son sein, un orifice d'accueil (40) permettant d'accueillir la partie extrémité de base (21) et des rainures de retenue (41). Les bornes hélicoïdales (5) sont formées à partir de fils hélicoïdaux (500). Chaque borne hélicoïdale (5) est dotée d'un corps principal (50), d'une partie d'extension (52), et d'une partie (53) formation de contact. Les parties (53) formation de contact sont poussées vers les côtés pastille d'électrode (22) par la force élastique des bornes hélicoïdales (5). L'unité de contact (3) est conçue de sorte que dans un état avant que la partie extrémité de base (21) soit accueillie dans l'orifice d'accueil (40), des portions des parties (53) formation de contact soient positionnées à l'intérieur des rainures de retenue (41).
(JA) ガスセンサ素子を大型化することなく、より多くの電極パッドを形成することができ、個々の電極パッドにバネ端子を良好に接触させることが可能なガスセンサを提供する。基端部21に複数個の電極パッド22が形成されたガスセンサ素子2を備える。基端側絶縁碍子4と複数のバネ端子5とからなる接点ユニット3が、上記基端部21に取り付けられている。基端側絶縁碍子4には、基端部21を収容する収容孔40と、保持溝41とが形成されている。バネ端子5は、バネ線材500によって形成されている。バネ端子5は、本体部50と、延出部52と、接点形成部53とを備える。接点形成部53は、バネ端子5の弾性力により、電極パッド22側に付勢されている。接点ユニット3は、収容孔40に基端部21を収容する前の状態において、接点形成部53の一部が保持溝41内に位置するよう構成されている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)