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1. (WO2015115531) METHOD FOR MANUFACTURING ALUMINUM PLATE, ALUMINUM PLATE, CURRENT COLLECTOR FOR ELECTRIC STORAGE DEVICE, AND ELECTRIC STORAGE DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/115531    International Application No.:    PCT/JP2015/052482
Publication Date: 06.08.2015 International Filing Date: 29.01.2015
IPC:
C25D 11/18 (2006.01), C25D 11/24 (2006.01), C25F 3/04 (2006.01), H01G 11/70 (2013.01), H01G 11/84 (2013.01), H01M 4/66 (2006.01), H01M 4/70 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: MATSUURA Atsushi; (JP).
KASUYA Yuichi; (JP).
KAWAGUCHI Junji; (JP).
HOTTA Hisashi; (JP).
HOTTA Yoshinori; (JP).
KOMATSU Hiroshi; (JP).
SAWADA Hirokazu; (JP)
Agent: WATANABE Mochitoshi; (JP)
Priority Data:
2014-017244 31.01.2014 JP
2014-070042 28.03.2014 JP
2014-202506 30.09.2014 JP
Title (EN) METHOD FOR MANUFACTURING ALUMINUM PLATE, ALUMINUM PLATE, CURRENT COLLECTOR FOR ELECTRIC STORAGE DEVICE, AND ELECTRIC STORAGE DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PLAQUE D'ALUMINIUM, PLAQUE D'ALUMINIUM, COLLECTEUR DE COURANT POUR DISPOSITIF DE STOCKAGE ÉLECTRIQUE, ET DISPOSITIF DE STOCKAGE ÉLECTRIQUE
(JA) アルミニウム板の製造方法、アルミニウム板、蓄電デバイス用集電体および蓄電デバイス
Abstract: front page image
(EN) A problem to be solved by the present invention is to provide a simple and highly productive method for manufacturing an aluminum plate by which it is possible to use any aluminum material, the aluminum plate being able to be used suitably for a current collector having excellent adhesion with an active material layer, and also to provide a current collector for an electric storage device and an electric storage device. In this method for manufacturing an aluminum plate, the aluminum plate has an aluminum base material having a plurality of penetrating holes in the direction of thickness, the method for manufacturing an aluminum plate having an oxide film-forming step in which an oxide film-forming treatment is performed on a surface of the aluminum base material having a thickness of 5-1000 µm and an oxide film is formed, and a penetrating hole-forming step performed after the oxide film-forming step, in which an electrochemical dissolution treatment is performed and penetrating holes are formed.
(FR) La présente invention vise à fournir un procédé simple et très productif pour fabriquer une plaque d'aluminium, au moyen duquel il est possible d'utiliser un matériau d'aluminium quelconque, la plaque d'aluminium pouvant être utilisée de façon appropriée pour un collecteur de courant ayant une excellente adhésion à une couche de matériau actif, et également à fournir un collecteur de courant pour un dispositif de stockage électrique, et un dispositif de stockage électrique. Dans ce procédé pour fabriquer une plaque d'aluminium, la plaque d'aluminium comprend un matériau de base en aluminium ayant une pluralité de trous de pénétration dans la direction d'épaisseur, le procédé pour fabriquer une plaque d'aluminium ayant une étape de formation de film d'oxyde, dans laquelle est réalisé un traitement de formation de film d'oxyde sur une surface du matériau de base en aluminium ayant une épaisseur de 5-1000 µm, et dans laquelle est formé un film d'oxyde, et une étape de formation de trou de pénétration réalisée après l'étape de formation de film d'oxyde, dans laquelle est réalisé un traitement de dissolution électrochimique, et dans laquelle sont formés des trous de pénétration.
(JA) 本発明は、簡便で生産性が高く、任意のアルミニウム材を用いることができ、活物質層との密着性に優れた集電体に好適に用いることができるアルミニウム板の製造方法、ならびに、蓄電デバイス用集電体および蓄電デバイスを提供することを課題とする。本発明のアルミニウム板の製造方法は、厚み方向に複数の貫通孔を有するアルミニウム基材を有するアルミニウム板の製造方法であって、厚さ5~1000μmのアルミニウム基材の表面に酸化膜形成処理を施し、酸化膜を形成する酸化膜形成工程と、酸化膜形成工程の後に、電気化学的溶解処理を施し、貫通孔を形成する貫通孔形成工程を有する、アルミニウム板の製造方法である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)