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1. (WO2015115136) METHOD FOR MANUFACTURING FILM FORMATION MASK AND FILM FORMATION MASK
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/115136    International Application No.:    PCT/JP2015/050227
Publication Date: 06.08.2015 International Filing Date: 07.01.2015
IPC:
C23C 14/04 (2006.01), B23K 26/38 (2014.01)
Applicants: V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005 (JP)
Inventors: MIZUMURA, Michinobu; (JP)
Agent: OGAWA, Moriaki; (JP)
Priority Data:
2014-018651 03.02.2014 JP
Title (EN) METHOD FOR MANUFACTURING FILM FORMATION MASK AND FILM FORMATION MASK
(FR) PROCÉDÉ POUR LA FABRICATION DE MASQUE DE FORMATION DE FILM ET MASQUE DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜マスクの製造方法及び成膜マスク
Abstract: front page image
(EN)The present invention is a method for manufacturing a film formation mask having a structure in which a resin film layer (1) provided with an opening pattern (4) of a previously determined specified pattern and a magnetic metal material layer (2) provided with spaces (7) of a size that can accommodate the opening pattern (4) are laminated. The opening pattern (4) is formed by irradiating laser light from both surfaces of portions of the film layer (1) corresponding to the spaces (7) to pierce the film layer (2).
(FR)La présente invention porte sur un procédé pour la fabrication d'un masque de formation de film ayant une structure dans laquelle une couche de film de résine (1) pourvue d'un motif d'ouvertures (4) ayant un motif spécifié préalablement déterminé et une couche de matériau métallique magnétique (2) pourvue d'espaces (7) ayant une taille qui permet de loger le motif d'ouvertures (4) sont stratifiées. Le motif d'ouvertures (4) est formé par exposition à de la lumière laser à partir des deux surfaces de parties de la couche de film (1) correspondant aux espaces (7) pour percer la couche de film (2).
(JA) 本発明は、予め定められた所定形状の開口パターン4を設けた樹脂製のフィルム層1と、前記開口パターン4が内在し得る大きさの隙間7を設けた磁性金属材料層2とを積層した構造の成膜マスクの製造方法であって、前記開口パターン4は、前記隙間7に対応したフィルム層1の部分に両面側からレーザ光を照射し、前記フィルム層2を貫通させて形成されるものである。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)