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1. (WO2015115000) ELECTRON BEAM DEVICE EQUIPPED WITH ORBITRON PUMP, AND ELECTRON BEAM RADIATION METHOD THEREFOR
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Pub. No.: WO/2015/115000 International Application No.: PCT/JP2014/084017
Publication Date: 06.08.2015 International Filing Date: 24.12.2014
IPC:
H01J 37/18 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
18
Vacuum locks
Applicants:
株式会社 日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
Inventors:
金田 実 KANEDA Minoru; JP
伊藤 博之 ITO Hiroyuki; JP
村越 久弥 MURAKOSHI Hisaya; JP
Agent:
井上 学 INOUE Manabu; JP
Priority Data:
2014-01505230.01.2014JP
Title (EN) ELECTRON BEAM DEVICE EQUIPPED WITH ORBITRON PUMP, AND ELECTRON BEAM RADIATION METHOD THEREFOR
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE DOTÉ D'UNE POMPE ORBITRON ET PROCÉDÉ DE RAYONNEMENT DE FAISCEAU ÉLECTRONIQUE POUR CELUI-CI
(JA) オービトロンポンプを備えた電子線装置、およびその電子線照射方法
Abstract:
(EN) Having such objective as preventing beam blurring from occurring for a primary electron beam (203) to remedy beam instability in an electron beam device equipped with an orbitron pump (120), the present invention relates to bringing the electric potential of an extraction electrode (201), which extracts the electron beam (203) from an electron source (200), to lower than the electric potential of the orbitron pump (120) filament (101), or the like, when the vacuum container holding the electron source (200) is being evacuated by the orbitron pump (120). According to the present invention, no electrons from the filament (101), or the like, leak out of the orbitron pump (120) and reach the extraction electrode (201). This prevents beam blurring from occurring for the primary electron beam (203) and remedies beam instability.
(FR) La présente invention vise à éviter le brouillage de faisceau d'un faisceau électronique primaire (203) afin de pallier l'instabilité d'un dispositif à faisceau électronique équipé d'une pompe orbitron (120). Plus précisément, l'invention consiste à réduire le potentiel électrique d'une électrode d'extraction (201) qui extrait le faisceau électronique (203) d'une source d'électrons (200) afin qu'il soit inférieur au potentiel électrique du filament (101) de la pompe orbitron (120) ou similaire, quand le récipient à vide contenant la source d'électrons (200) est évacué par la pompe orbitron (120). Selon l'invention, aucun électron provenant du filament (101) ou similaire ne fuit hors de la pompe orbitron (120) pour atteindre l'électrode d'extraction (201). Ceci évite le brouillage de faisceau du faisceau électronique primaire (203) et pallie l'instabilité du faisceau.
(JA) 本発明は、オービトロンポンプ(120)を備えた電子線装置において、一次電子ビーム(203)のビームぼけを防止し、ビーム不安定性を改善することなどを目的として、電子源(200)を保持する真空容器をオービトロンポンプ(120)により真空排気するときに、電子源(200)から電子線(203)を引き出す引出電極(201)の電位を、オービトロンポンプ(120)のフィラメント(101)などの電位より低くすることに関する。本発明によれば、フィラメント(101)などからの電子がオービトロンポンプ(120)から漏れ出し、引出電極(201)に到達することが無くなる。これにより、一次電子ビーム(203)のビームぼけを防止し、ビーム不安定性を改善する。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)