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Pub. No.: WO/2015/114977 International Application No.: PCT/JP2014/083380
Publication Date: 06.08.2015 International Filing Date: 17.12.2014
H01L 21/302 (2006.01) ,H01L 21/3065 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED[JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325, JP
Inventors: MIDORIKAWA, Yohei; JP
TANAKA, Atsushi; JP
Agent: KANEMOTO, Tetsuo; JP
Priority Data:
(JA) 基板処理装置
Abstract: front page image
(EN) The substrate processing device has an exhaust mechanism for evacuating the interior of a processing container. The processing container comprises: a bottomed main body part with an open upper face; a cylindrically-shaped cylinder part provided with a flange for hermetically closing the upper face of the main body part, and a side wall whereof the diameter is smaller than that of the main body part and whereof the diameter is larger than that of the outer face of a stage; and, provided on the upper face of the flange, a lid body for hermetically closing the opening of the main body part. A groove portion depressed downward into a U shape is formed on the upper face of the flange, a heater being disposed in said groove portion. The side wall of the cylinder part is formed so as to extend lower than the upper face of the stage. Provided at the lower end of the side wall is a locking member protruding towards the center of the side wall. A baffle plate having a plurality of holes formed therein is provided on the upper face of the locking member.
(FR) L'invention concerne un dispositif de traitement de substrat qui comprend un mécanisme d'évacuation pour la mise sous vide de l'intérieur d'un récipient de traitement. Le récipient de traitement comprend : une partie de corps principal à fond munie d'une face supérieure ouverte ; une partie cylindrique de forme cylindrique munie d'une bride pour fermer hermétiquement la face supérieure de la partie de corps principal et d'une paroi latérale dont le diamètre est inférieur à celui de la partie de corps principal et dont le diamètre est supérieur à celui de la face extérieure d'un palier ; et, se trouvant sur la face supérieure de la bride, un corps de couvercle pour fermer hermétiquement l'ouverture de la partie de corps principal. Une portion en rainure enfoncée vers le bas en forme de U est formée sur la face supérieure de la bride et un élément chauffant est disposé dans ladite portion en rainure. La paroi latérale de la partie cylindrique est formée de manière à s'étendre plus bas que la face supérieure du palier. Un élément de verrouillage qui fait saillie en direction du centre de la paroi latérale se trouve à l'extrémité inférieure de la paroi latérale. Une plaque de déflexion dans laquelle est formée une pluralité de trous se trouve sur la face supérieure de l'élément de verrouillage.
(JA)  基板処理装置は処理容器内を排気する排気機構を有し、当該処理容器は、上面が開口した有底の本体部と、本体部の上面を気密に塞ぐフランジ及び本体部より直径が小さく且つ載置台の外側面より直径が大きな側壁を備えた円筒形状の円筒部と、フランジの上面に設けられ、本体部の開口を気密に塞ぐ蓋体とを有し、フランジの上面には下方に凹に窪んだ溝部が形成され、当該溝部にはヒータが配置され、円筒部の側壁は載置台の上面よりも下方に延伸して形成され、側壁の下端には、側壁の中心方向に向けて突出する係止部材が設けられ、係止部材の上面には、複数の開口が形成されたバッフル板が配置されている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)