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1. (WO2015114935) DEPOSITION APPARATUS, DEPOSITION METHOD, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2015/114935 International Application No.: PCT/JP2014/081542
Publication Date: 06.08.2015 International Filing Date: 28.11.2014
IPC:
C23C 14/24 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA[JP/JP]; 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
Inventors: OCHI Takashi; null
INOUE Satoshi; null
KOBAYASHI Yuhki; null
MATSUNAGA Kazuki; null
KAWATO Shinichi; null
KIKUCHI Katsuhiro; null
ICHIHARA Masahiro; JP
MATSUMOTO Eiichi; JP
Agent: YASUTOMI & ASSOCIATES; 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003, JP
Priority Data:
2014-01427829.01.2014JP
Title (EN) DEPOSITION APPARATUS, DEPOSITION METHOD, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL DE DÉPÔT, PROCÉDÉ DE DÉPÔT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) 蒸着装置、蒸着方法、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
Abstract: front page image
(EN) The present invention provides: a deposition apparatus having excellent control accuracy of deposition rate in a whole deposition region on a substrate; a deposition method; and an organic electroluminescent element manufacturing method. This deposition apparatus for forming a film on a substrate is provided with a first film thickness monitor, and a deposition unit including a deposition source, and performs deposition while controlling, on the basis of measurement results obtained from the first film thickness monitor, a distance between a part from which a vaporized material is discharged from the deposition source, and a substrate surface on which the material is to be deposited.
(FR) L'invention concerne : un appareil de dépôt présentant une excellente précision de commande de vitesse de dépôt dans une région de dépôt entière sur un substrat; un procédé de dépôt; et un procédé de fabrication d'élément électroluminescent. Cet appareil de dépôt destiné à former un film sur un substrat est muni d'un dispositif de surveillance de première épaisseur de film et d'une unité de dépôt incluant une source de dépôt et effectue un dépôt tout en commandant, sur la base de résultats de mesure obtenus auprès du dispositif de surveillance de première épaisseur de film, une distance entre une partie depuis laquelle une matière vaporisée est déchargée de la source de dépôt et une surface de substrat sur laquelle la matière doit être déposée.
(JA) 本発明は、蒸着領域全体において基板上での蒸着レートの制御精度に優れた蒸着装置、蒸着方法、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供する。本発明は、基板上に成膜する蒸着装置であって、前記蒸着装置は、第一の膜厚モニタと、蒸着源を含む蒸着ユニットとを備え、かつ、前記第一の膜厚モニタの測定結果に基づいて、気化した材料が前記蒸着源から放出される部分と、前記基板の蒸着される表面との間の距離を制御しながら蒸着を行う蒸着装置である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)