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1. (WO2015114043) METHOD FOR PRODUCING A MIRROR ELEMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/114043    International Application No.:    PCT/EP2015/051791
Publication Date: 06.08.2015 International Filing Date: 29.01.2015
IPC:
G02B 5/08 (2006.01), G02B 5/09 (2006.01), G21K 1/06 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
ENKISCH, Hartmut [DE/DE]; (DE) (US only).
HUBER, Peter [DE/DE]; (DE) (US only).
STROBEL, Sebastian [DE/DE]; (DE) (US only)
Inventors: ENKISCH, Hartmut; (DE).
HUBER, Peter; (DE).
STROBEL, Sebastian; (DE)
Agent: FRANK, Hartmut; (DE)
Priority Data:
10 2014 201 622.3 30.01.2014 DE
Title (DE) VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES SPIEGELELEMENTS
(EN) METHOD FOR PRODUCING A MIRROR ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉLÉMENT DE MIROIR
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Spiegelelements, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Bereitstellen eines Substrats (101, 102, 103, 104, 201, 202, 301, 302, 401, 402, 501, 502, 801, 901, 951, 961) und Ausbilden eines Schichtstapels (111, 112, 113, 114, 211, 212, 311, 312, 411, 412, 511, 512) auf dem Substrat, wobei das Ausbilden des Schichtstapels derart erfolgt, dass eine für eine vorgegebene Betriebstemperatur gewünschte Soll-Krümmung des Spiegelelements durch eine von dem Schichtstapel ausgeübte Biegekraft erzeugt wird, wobei das Substrat vor dem Ausbilden des Schichtstapels eine von dieser Soll-Krümmung des Spiegelelements abweichende Krümmung besitzt, und wobei die von dem Schichtstapel ausgeübte Biegekraft zumindest teilweise dadurch erzeugt wird, dass eine Nachbehandlung zur Veränderung der Schichtspannung des Schichtstapels durchgeführt wird.
(EN)The invention relates to a method for producing a mirror element, more particularly for a microlithographic projection exposure apparatus. A method according to the invention comprises the following steps: providing a substrate (101, 102, 103, 104, 201, 202, 301, 302, 401, 402, 501, 502, 801, 901, 951, 961) and forming a layer stack (111, 112, 113, 114, 211, 212, 311, 312, 411, 412, 511, 512) on the substrate, wherein forming the layer stack is carried out in such a way that a desired curvature - wanted for a predefined operating temperature - of the mirror element is produced by a bending force exerted by the layer stack, wherein, before the layer stack is formed, the substrate has a curvature deviating from said desired curvature of the mirror element, and wherein the bending force exerted by the layer stack is at least partly produced by an aftertreatment for altering the layer stress of the layer stack being carried out.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un élément de miroir, destiné en particulier à un système de microlithographie par projection. Un procédé selon l'invention comprend les étapes suivantes consistant à : préparer un substrat (101, 102, 103, 104, 201, 202, 301, 302, 401, 402, 501, 502, 801, 901, 951, 961) et former un empilement de couches (111, 112, 113, 114, 211, 212, 311, 312, 411, 412, 511, 512) sur le substrat, l'empilement de couches étant réalisé de telle sorte qu'une courbure de consigne de l'élément de miroir, qui est souhaitée pour une température de fonctionnement prescrite, est générée par une force de flexion exercée par l'empilement de couches, le substrat présentant, avant la formation de l'empilement de couches, une courbure qui est différente de cette courbure de consigne de l'élément de miroir, et la force de flexion exercée par l'empilement de couches étant générée au moins partiellement la conséquence d'un traitement ultérieur effectué pour modifier la tension de l'empilement de couches.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)