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1. (WO2015042022) METHOD AND APPARATUS FOR DIRECT FORMATION OF NANOMETER SCALED FEATURES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/042022    International Application No.:    PCT/US2014/055799
Publication Date: 26.03.2015 International Filing Date: 16.09.2014
IPC:
H01L 21/02 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventors: MACK, James Francis; (US).
MOFFATT, Steve; (GB)
Agent: PATTERSON, B., Todd; (US)
Priority Data:
61/880,521 20.09.2013 US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR DIRECT FORMATION OF NANOMETER SCALED FEATURES
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR LA FORMATION DIRECTE DE CARACTÉRISTIQUES À L'ÉCHELLE NANOMÉTRIQUE
Abstract: front page image
(EN)An apparatus and use of the apparatus to form nanometer sized features on a workpiece includes a plurality of individually biasable tips, and each tip has a diameter on the scale or 10 nm or less. By moving the tips above the surface of a workpiece in the presence of reactants, features can be directly formed on the workpiece on a sub-micron size, below the resolution of current photolithography. The features may be etched into a workpiece, or formed thereover.
(FR)L'invention concerne un appareil et une utilisation de l'appareil pour former des caractéristiques à l'échelle nanométrique sur une pièce à usiner, comprenant une pluralité de pointes inclinables individuellement et chaque pointe présentant un diamètre de l'ordre de 10 nm ou moins. En déplaçant les pointes au-dessus de la surface d'une pièce à usiner en présence de réactifs, des caractéristiques peuvent être formées directement sur la pièce à usiner à une échelle submicronique, au-dessous de la résolution de la photolithographie actuelle. Les caractéristiques peuvent être gravées dans une pièce à usiner ou formées sur la surface de celle-ci.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)