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1. (WO2015041978) EXTENDED DARK SPACE SHIELD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/041978    International Application No.:    PCT/US2014/055624
Publication Date: 26.03.2015 International Filing Date: 15.09.2014
IPC:
C23C 14/34 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: NGUYEN, Thanh; (US).
WANG, Rongjun; (US).
RASHEED, Muhammad M.; (US).
TANG, Xianmin; (US)
Agent: TABOADA, Alan; (US)
Priority Data:
61/879,119 17.09.2013 US
14/486,223 15.09.2014 US
Title (EN) EXTENDED DARK SPACE SHIELD
(FR) ÉLÉMENT DE PROTECTION D'ESPACE SOMBRE ALLONGÉ
Abstract: front page image
(EN)Apparatus for physical vapor deposition are provided. In some embodiments, an apparatus for use in a physical vapor deposition substrate processing chamber includes a process shield having a central opening passing through a body of the process shield and defining a processing volume of the substrate processing chamber, wherein the process shield comprises an annular dark space shield fabricated from a ceramic material and an annular ground shield fabricated from a conductive material, and wherein a ratio of a length of the annular dark space shield to a length of the annular ground shield is about 2:1 to about 1.6:1.
(FR)La présente invention concerne un appareil de dépôt physique en phase vapeur. Dans certains modes de réalisation, un appareil destiné à une utilisation dans une chambre de traitement de substrat par dépôt physique en phase vapeur comprend une protection de processus ayant une ouverture centrale traversant un corps de la protection de processus et définissant un volume de traitement de la chambre de traitement de substrat. La protection de processus comprend un élément de protection d'espace sombre annulaire fabriqué en un matériau céramique et une protection de mise à la terre annulaire fabriquée en un matériau conducteur. Un rapport d'une longueur de l'élément de protection d'espace sombre annulaire à une longueur de la protection de mise à la terre annulaire se situe entre environ 2:1 et environ 1,6:1.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)