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1. (WO2015041283) STRUCTURE, PRODUCTION METHOD THEREFOR, AND ARTICLE PROVIDED WITH SAID STRUCTURE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/041283    International Application No.:    PCT/JP2014/074662
Publication Date: 26.03.2015 International Filing Date: 18.09.2014
IPC:
G02B 1/11 (2015.01), B32B 7/02 (2006.01)
Applicants: MITSUBISHI RAYON CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008253 (JP)
Inventors: MORI Seiichiro; (JP).
FUJIYAMA Kousuke; (JP).
OTANI Go; (JP).
NAKAI Yusuke; (JP).
JIGAMI Tetsuya; (JP)
Agent: SHIGA Masatake; (JP)
Priority Data:
2013-193215 18.09.2013 JP
Title (EN) STRUCTURE, PRODUCTION METHOD THEREFOR, AND ARTICLE PROVIDED WITH SAID STRUCTURE
(FR) STRUCTURE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION ASSOCIÉ ET ARTICLE POURVU DE LADITE STRUCTURE
(JA) 構造体及びその製造方法、並びに前記構造体を備える物品
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to a structure provided with a substrate, and a fine-unevenness-structure layer provided to at least one surface of the substrate, said structure wherein the fine-unevenness-structure layer is disposed at a surface of the structure, the indentation elastic modulus of the structure is 1-1300 MPa, and the ratio (∆µ) of the rate of change of the coefficient of kinetic friction of the surface of the structure is 0.15-1.05, said ratio being represented by formula (1), namely ∆µ=∆µf/∆µs (in formula (1): ∆µs represents the rate of change of the coefficient of kinetic friction of the surface of the structure at an initial-abrasion stage of a reciprocating abrasion test; and ∆µf represents the rate of change of the coefficient of kinetic friction of the surface of the structure immediately prior to the end of the reciprocating abrasion test). According to the present invention, a structure exhibiting excellent scratch resistance without compromising on the optical performance thereof, such as the anti-reflection performance thereof, a production method for said structure, and an article provided with said structure can be provided.
(FR)La présente invention concerne une structure pourvue d'un substrat, et une couche de structure d'irrégularité fine située sur au moins une surface du substrat, ladite structure dans laquelle la couche de structure d'irrégularité fine est agencée au niveau d'une surface de la structure, le module élastique d'indentation de la structure est compris entre de 1 et 1300 MPa, et le rapport (∆µ) du taux de changement du coefficient de frottement dynamique de la surface de la structure est compris entre 0,15 et 1,05, ledit rapport étant représenté par une formule (1), à savoir ∆µ=∆µf/∆µs (dans la formule (1) : ∆µs représente le taux de changement du coefficient de frottement dynamique de la surface de la structure à une étape d'abrasion initiale d'un essai d'abrasion en va-et-vient ; et ∆µf représente le taux de changement du coefficient de frottement dynamique de la surface de la structure immédiatement avant la fin de l'essai d'abrasion en va-et-vient). Selon la présente invention, il est possible d'obtenir une structure présentant une excellente résistance aux rayures sans compromettre la performance optique de cette dernière, telle que la performance anti-reflets de cette dernière, un procédé de production pour ladite structure et un article pourvu de ladite structure.
(JA) 本発明は、基材と、前記基材の少なくとも一方の面に設けられた微細凹凸構造層とを有する構造体であって、前記微細凹凸構造層は前記構造体の表面に配置されており、前記構造体の押し込み弾性率が1~1300MPaであり、且つ以下の式(1)で表される前記構造体表面の動摩擦係数の変化率の比(Δμ)が、0.15~1.05である、構造体に関する。本発明によれば、反射防止性能等の光学性能を損なうことなく、耐擦傷性に優れた構造体及びその製造方法、並びに前記構造体を備える物品を提供できる。 Δμ=Δμf/Δμs ・・・(1) (式(1)において、Δμsは、構造体表面の往復摩耗試験における初期摩耗の段階の動摩擦係数の変化率を表し、Δμfは、構造体表面の往復摩耗試験における試験終了直前の動摩擦係数の変化率を表す。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)