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1. (WO2015041007) SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, LIGHT-EMITTING ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND DEVICE HAVING SUBSTRATE OR LIGHT-EMITTING ELEMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/041007    International Application No.:    PCT/JP2014/072208
Publication Date: 26.03.2015 International Filing Date: 25.08.2014
IPC:
H01L 33/22 (2010.01), H01L 21/316 (2006.01)
Applicants: NAMIKI SEIMITSU HOUSEKI KABUSHIKIKAISHA [JP/JP]; 8-22, Shinden 3-chome, Adachi-ku, Tokyo 1238511 (JP).
TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666 (JP)
Inventors: AOTA Natsuko; (JP).
AIDA Hideo; (JP).
KIMURA Yutaka; (JP).
SUWA Mitsuhito; (JP).
KAMOGAWA Masao; (JP)
Agent: EICHI PATENT & TRADEMARK CORP.; 45-13, Sengoku 4-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1120011 (JP)
Priority Data:
2013-194731 20.09.2013 JP
Title (EN) SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, LIGHT-EMITTING ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND DEVICE HAVING SUBSTRATE OR LIGHT-EMITTING ELEMENT
(FR) SUBSTRAT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET DISPOSITIF COMPORTANT UN SUBSTRAT OU UN ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT
(JA) 基板とその製造方法、及び発光素子とその製造方法、及びその基板又は発光素子を有する装置
Abstract: front page image
(EN) Provided is a substrate having a desired pattern on a surface thereof, and a method for manufacturing the same, as well as a light-emitting element and a method for manufacturing the same, and a device having the substrate or the light-emitting element. The invention enables a reduction in the number of steps and a decrease in cost resulting from the reduction in the number of steps, by enabling patterning without the use of a photoresist film. A flat substrate is prepared, a dielectric containing a photosensitive agent is formed on the surface of the substrate, and the dielectric is patterned to form the dielectric of a desired pattern on the surface of the substrate, yielding a substrate having a pattern comprising island-shaped protrusions formed on the surface of the flat substrate, the protrusions being made of the dielectric.
(FR) L'invention concerne un substrat dont une surface comporte un motif désiré, et son procédé de fabrication, ainsi qu'un élément électroluminescent et son procédé de fabrication, et un dispositif comportant le substrat ou l'élément électroluminescent. L'invention permet une réduction du nombre d'étapes et une baisse du coût résultant de la réduction du nombre d'étapes, en permettant le traçage de motifs sans utiliser de pellicule photorésistante. Un substrat plat est préparé, un diélectrique contenant un agent photosensible est formé sur la surface du substrat et des motifs sont tracés sur le diélectrique pour former le diélectrique ayant un motif désiré sur la surface du substrat, produisant ainsi un substrat dont un motif comprend des excroissances en forme d'îlots formées sur la surface du substrat plat, les excroissances étant constituées du diélectrique.
(JA) フォトレジスト膜無しでもパターン形成を可能とすることで、工程数の削減と、工程数削減に伴う低コスト化を可能とした、所望のパターンを面上に有する基板とその製造方法、及び発光素子とその製造方法、及びその基板又は発光素子を有する装置を提供する。 平坦な基板を用意し、感光剤を含有する誘電体を基板面上に形成し、誘電体をパターン形成して、所望のパターンの誘電体を基板面上に形成することで、平坦な基板の面上に、島状の凸部からなるパターンを有し、凸部が誘電体から構成される基板を得る。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)