WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2015039732) GAS FLOW DEVICE FOR A SYSTEM FOR THE RADIATION TREATMENT OF SUBSTRATES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2015/039732    International Application No.:    PCT/EP2014/002406
Publication Date: 26.03.2015 International Filing Date: 05.09.2014
IPC:
B05D 3/06 (2006.01), F26B 3/28 (2006.01), B29C 71/04 (2006.01), B29B 13/06 (2006.01), B29C 35/08 (2006.01), B29C 37/00 (2006.01), B29C 35/04 (2006.01)
Applicants: OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, PFÄFFIKON [CH/CH]; Churerstrasse 120 8808 Pfäffikon (CH)
Inventors: RIBEIRO, Carlos; (VN)
Agent: KEMPKENS, Anke; Kanzlei Kempkens Hofgraben 486 86899 Landsberg am Lech (DE)
Priority Data:
10 2013 015 580.0 20.09.2013 DE
Title (DE) GASSTROMVORRICHTUNG FÜR ANLAGE ZUR STRAHLUNGSBEHANDLUNG VON SUBSTRATEN
(EN) GAS FLOW DEVICE FOR A SYSTEM FOR THE RADIATION TREATMENT OF SUBSTRATES
(FR) DISPOSITIF À FLUX DE GAZ POUR UNE INSTALLATION DESTINÉE AU TRAITEMENT PAR IRRADIATION DE SUBSTRATS
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Anlage zur Strahlungsbehandlung von Substraten, welche in einer Kammer über den Substrathaltern zum Bestücken von zu behandelnden Substraten mindestens eine Strahlungsquelle umfasst und wobei die Kammer Mittel zur Aufrechterhaltung eines Gasstromes in der Kammer mit zumindest einen Gaseinlass und zumindest einen Gasauslass umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass der zumindest eine Gaseinlass im Bereich der Substrathalter angeordnet ist dergestalt, dass durch den zumindest einen Gaseinlass einströmendes Gas zunächst die Substrathalter umströmt bevor es entweder direkt und/oder nach Umströmung der mindestens einen Strahlungsquelle durch den Gasauslass wieder die Kammer verlässt.
(EN)The invention relates to a system for the radiation treatment of substrates, which comprises at least one radiation source in a chamber above the substrate holders for loading substrates to be treated, and wherein the chamber comprises means for maintaining a gas flow in the chamber, said means having at least one gas inlet and at least one gas outlet, characterized in that the at least one gas inlet is arranged in the region of the substrate holders, such that gas flowing in through the at least one gas inlet firstly flows around the substrate holders before leaving the chamber again through the gas outlet either directly and/or after flowing round the at least one radiation source.
(FR)L'invention concerne une installation pour le traitement par irradiation de substrats, qui contient, dans une chambre au-dessus des supports de substrats destinés à recevoir les substrats à traiter, au moins une source d'irradiation et la chambre comprenant des moyens pour maintenir un flux de gaz dans la chambre, présentant au moins une entrée de gaz et au moins une sortie de gaz. Selon l'invention, ladite au moins une entrée de gaz est disposée dans la zone des supports de substrats de manière telle que le gaz entrant via ladite au moins une entrée de gaz s'écoule d'abord autour des supports de substrats avant qu'il ne quitte, soit directement et/ou après l'écoulement autour de ladite au moins une source d'irradiation, à nouveau la chambre via la sortie de gaz.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)